판매용 중고 KLA / TENCOR Altair 8920 #293753764

KLA/TENCOR Altair 8920은 고성능 반도체 제조 공정을 위해 설계된 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 최첨단 시스템은 혁신적인 기술을 활용하여 집적회로 (IC) 제작에 사용되는 마스크 (mask) 와 웨이퍼 (wafer) 의 결함을 감지하는 데 매우 정확하고 효율적인 검사 기능을 제공합니다. KLA Altair 8920 장치에는 다양한 고급 이미징 기술을 사용하여 높은 정확도와 해상도로 마스크와 웨이퍼 (wafer) 를 검사하는 정교한 광학 검사 모듈이 있습니다. 이 모듈은 밝은 필드, 어두운 필드, 다각도 조명 (multi-angle lumination) 기술을 결합하여 검사되는 기판의 표면에 대한 자세한 이미지를 캡처합니다. 이 기계에는 고해상도 카메라와 광학 (optic) 이 장착되어 있어 검사된 샘플에서 가장 작은 결함과 이상을 감지할 수 있습니다. TENCOR Altair 8920 도구의 주요 기능 중 하나는 고급 결함 감지 알고리즘 및 이미지 처리 기능입니다. 이 에셋에는 캡처된 이미지를 실시간으로 분석하여 입자, 긁힘, 패턴 편차 (pattern deviations) 와 같은 결함을 식별하고 분류하는 강력한 계산 도구 (computational tools) 가 탑재되어 있습니다. 모델의 소프트웨어 알고리즘은 최종 IC (final IC) 의 기능과 허용 가능한 공차 내에 있는 경계 (non-critical) 결함에 영향을 줄 수 있는 심각한 결함을 구분할 수 있습니다. 알테어 8920 (Altair 8920) 장비는 결함 감지 외에도 중요한 치수를 측정하고 마스크와 웨이퍼의 오버레이 정확도를 측정하는 고급 도량형 기능을 제공합니다. 이 시스템은 특수 도량형 알고리즘을 사용하여 나노 미터 (sub-nanometer) 정밀도로 선 너비, 간격 및 등록 오류와 같은 피쳐를 정량화합니다. 이 도량형 기능을 통해 반도체 제조업체는 제조 프로세스가 높은 성능과 안정성을 갖춘 고급 IC (Advanced IC) 를 생산하는 데 필요한 엄격한 품질 표준을 충족할 수 있습니다. KLA/TENCOR Altair 8920 장치는 소규모 연구 개발 샘플에서 대규모 생산 볼륨에 이르기까지 다양한 마스크 및 웨이퍼 크기를 처리하도록 설계되었습니다. 기계의 자동 처리 시스템 (Automated Handling System) 과 고급 단계 제어 메커니즘 (Advanced Stage Control Mechanism) 을 통해 기판을 효율적으로 로드, 포지셔닝 및 검사할 수 있습니다. 이 도구는 패턴화 된 기판 (patterned substrate) 과 무단 기판 (unpatterned substrate) 에 대한 검사를 수행할 수 있으므로 다양한 반도체 제조 응용 분야에 대한 다용도 도구입니다. 또한, KLA Altair 8920 자산에는 반도체 제조업체가 검사 프로세스 결과를 추적, 분석 할 수있는 포괄적인 데이터 분석 및 보고 기능이 있습니다. 이 모델의 소프트웨어 인터페이스를 사용하면 검사 데이터를 시각화 (Visualize) 하고 해석하고, 상세한 보고서를 생성하며, 제조 프로세스를 최적화하고, 전반적인 수익률과 품질을 향상시킬 수 있는 프로세스 추세를 파악할 수 있습니다. 결론적으로 TENCOR Altair 8920은 최첨단 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 반도체 제조를 위한 탁월한 결함 감지, 도량형, 데이터 분석 기능을 제공합니다. 고급 이미징 기술, 강력한 알고리즘, 강력한 자동화 기능을 갖춘 Altair 8920 시스템은 오늘날 경쟁사 반도체 업계에서 IC 생산의 품질, 신뢰성을 보장하는 데 필수적인 도구입니다.