판매용 중고 KLA / TENCOR ABI 2000 #9155128

ID: 9155128
Bump inspection system Single Phase, 50/60 Hz 20 Amps, 208 V 1998 vintage.
KLA/TENCOR ABI 2000은 생산 전에 반도체 웨이퍼와 마스크를 정확하고 효율적으로 검사하도록 설계된 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 고급 옵틱 (optic) 과 이미지 프로세싱을 사용하여 0.02äm 정도의 작은 결함을 감지하여 반도체 생산 라인의 신뢰성과 비용 효율적인 검사를위한 이상적인 도구입니다. 이 장치는 몇 가지 고유 한 구성 요소로 구성되어 있으며, 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 검사 (mask inspection) 에서 높은 정밀도와 효율성을 제공합니다. 이 제품은 밝은 광원 모듈 (light source module) 을 사용하여 표본과 카메라 기반 이미징 머신에 빛을 투영합니다. 두 모듈 모두 특수 설계된 렌즈, 필터, 조리개 등 최강의 Optic을 탑재하여 정확하고 고해상도 이미징을 제공합니다. KLA ABI 2000의 이미징 기능은 고급 이미지 분석 소프트웨어로 보완됩니다. 이 독점 소프트웨어를 사용하면 표본의 복잡한 3 차원 이미지를 촬영하고 2 차원 렌더링으로 분해하여 마스크 (mask) 또는 웨이퍼 (wafer) 결함을 정확하게 식별 할 수 있습니다. 이 도구는 웨이퍼 (wafer) 또는 마스크 (mask) 생산 실행에 데이터를 기록, 분석 및 문서화하여 제조 프로세스 전반에 걸쳐 자세한 추적 가능성을 제공합니다. 또한 데이터베이스 (database) 는 이전 실행의 포괄적인 운영 데이터 (production data) 와 통계 (statistics) 를 저장하여 운영 프로세스에 대한 포괄적인 개요를 가능하게 합니다. TENCOR ABI 2000은 안정적이고 효율적인 마스크 및 웨이퍼 검사 자산으로, 반도체 부품을 정확하고 경제적으로 생산할 수 있습니다. '고급 광학 (Optics)' 과 '이미지 (Image) 분석' 을 통해 모든 반도체 제조업체가 생산능률을 높이고 비용을 절감하고자 하는 이상적인 툴이 됩니다.
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