판매용 중고 KLA / TENCOR 3905 #9310915

KLA/TENCOR 3905 Mask & Wafer Inspection Equipment는 반도체 제작 과정에서 플랫 기판의 재료 결함을 감지하고 디버그하도록 설계된 최첨단 도구입니다. 시스템은 결함을 측정, 식별, 분류 및 수리 할 수있는 여러 구성 요소로 구성됩니다. 이 장치는 다양한 기술과 알고리즘을 활용하여 높은 정확도와 성능을 보장합니다. 기계의 주요 부분은 회절 기반 광학 영상 도구 (diffraction-based optical imaging tool) 로 검사 과정에서 기판 내의 여러 레이어를 동시에 시각화할 수 있습니다. 이 자산은 다중 계층 결함 감지를 가능하게하기 위해 파장 기반의 다중 반사 방식을 채택합니다. 또한 결함 현지화 기능을 향상시키기 위해 가장자리 감지 및 어두운 필드 기술을 사용하는 PICON (Patterned Illumination Contrast Model) 도 포함되어 있습니다. 이 외에도, 장비에는 데이터 처리, 기능 감지, 분류, 정렬 및 보고를위한 소프트웨어 모듈도 포함됩니다. KLA 3905 Mask & Wafer Inspection System은 광원, 검출기, 광학 필터 등 여러 광학 구성 요소를 포함하는 전체 스펙트럼 이미징 장치를 통합하여 결함을 파악하고 감지합니다. 이 기계는 혁신적인 적응형 밝기 조명 (Bright Field Illumination) 기술을 사용하여 넓은 영역 검사에 대한 성능을 극대화합니다. 또한 각 결함을 여러 범주 중 하나로 분류하여 결함의 분류 및 수리를 향상시키는 메트릭 (metric) 을 제공합니다. 이 도구는 새로운 수준의 실시간 이미징 기술을 통합하여 기판 검사 속도를 향상시킵니다. 여기에는 고급 DNN (Deep Defect Reconstruction) 을 사용하여 개별 결함 기능을 재구성하는 Deep Defect Reconstruction이 포함됩니다. DNN 은 이미징 데이터 조합에서 결함의 3D 표현을 생성할 수 있습니다. 즉, 이 실시간 이미지 처리 (Real Time Imaging) 기술을 통해 결함 식별과 정렬을 더 빨리 완료할 수 있으므로 시간과 비용을 모두 절감할 수 있습니다. TENCOR 3905 마스크 및 웨이퍼 검사 자산에는 여러 가지 자동 초점 및 확대/축소 광학도 포함되어 있습니다. 즉, 다양한 해상도를 지원하여 단일 결함을 더 잘 구별, 분석할 수 있습니다. 적절한 확대로 모델은 많은 결함을 식별 할 수 있습니다. 이 장비에는 사용자 친화적 인 대화형 웹 기반 인터페이스 (Interactive Web Based Interface) 도 포함되어 있으며, 사용자가 실시간으로 작업을 모니터링하고 필요할 때 조정할 수 있습니다. 3905 Mask & Wafer Inspection System은 이미 반도체 제조에 효율적이고 비용 효율적인 도구로 입증되었습니다. 신뢰할 수 있으며, 전자제품의 전반적인 품질과 성능을 향상시키는 일관된 결과를 제공합니다. 반도체 제작과정을 개선하는 면에서 미래는 밝아보인다. 반도체 제작과정 (FA) 의 3 배 수준이다.