판매용 중고 KLA / TENCOR 2835i #9384468

KLA/TENCOR 2835i는 포토 마스크 및 웨이퍼에 대한 작은 결함 및 비균일 성을 감지하는 데 사용되는 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 첨단 이미징 기술 (advanced imaging technology) 과 전문 소프트웨어 알고리즘의 고유하고 고급 조합을 활용하여 지표 수준의 이상에서 오염, 재료 오작동에 이르기까지 장치 결함의 전체 스펙트럼에 대한 자세한 정보를 제공합니다. 이 시스템에는 포토마스크 (photomask) 나 집적회로 (integrated circuit) 의 기능 이미지를 미세한 수준으로 찍는 고해상도 이미징 헤드가 들어 있습니다. 이미징 헤드는 4GB RAM 및 최대 64GB 하드 디스크 공간이 있는 Pentium 컴퓨터로 구동됩니다. 자동화된 전용 웨이퍼 처리 장치 (wafer-handling unit) 는 이미징 헤드 (imaging head) 의 시야에 웨이퍼를 정확하게 배치하여 정확한 결함 위치와 검사를 가능하게 합니다. KLA 2835i는 완전한 결함 감지를 위해 경량 및 다크 필드 이미징을 모두 제공합니다. 여기에는 화학 물질과 화합물을 식별하기위한 지형 측정 및 원소 스펙트럼이 모두 포함됩니다. 전문 소프트웨어 및 알고리즘은 의심되는 결함의 크기, 모양, 방향을 측정하며, 이는 사용자가 결함 분류를 도와줍니다. TENCOR 2835i는 토폴로지, 자외선 (UV), 광학 및 전자 빔과 같은 다양한 매개 변수를 측정 할 수도 있습니다. 특화된 기능 기반 분류 머신과 결합된 고급 유역 세그먼트 알고리즘 (advanced watershed segmentation algorithm) 을 사용하여 2835i는 다양한 결함을 정확하게 식별, 분류 및 측정 할 수 있습니다. KLA/TENCOR 2835i는 10nm보다 작은 결함을 감지 할 수 있으며 1nm (이미지 치수의 1%) 의 반복 가능성 정확도를 제공합니다. 이 매우 정확한 도구를 사용하면 반도체, 조명, 광학, 태양 광, 생명 공학 및 MEMS를 포함한 광범위한 산업에서 안정적인 마스크 및 웨이퍼 검사를 할 수 있습니다. 직관적이고 사용자 친화적인 인터페이스로 인해 KLA 2835i 의 포괄적인 결함 분석이 쉽고 효율적입니다. 수동 결함 검토 (Manual Defect Review) 자산이 내장되어 있어 모든 결함이 확인 및 문서화되어 있는지 확인합니다. 결론적으로, TENCOR 2835i는 포괄적인 결함 분석과 함께 정확하고 자동화된 결함 감지 및 분류를 제공하는 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 모델입니다. 이 장비 는 매우 다양 한 산업 "응용프로그램 '에서 효과적 이며, 이것 은" 포토마스크' 와 집적 회로 의 생산 및 시험 에 귀중 한 도구 이다.