판매용 중고 KLA / TENCOR 2810 #9227348

KLA/TENCOR 2810은 최첨단 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로 웨이퍼 (Wafer) 및 마스크 (Mask) 의 결함을 감지하고 웨이퍼에 있는 피쳐의 크기, 모양 및 배치를 정확하게 측정할 수 있습니다. KLA 2810은 오늘날 반도체 장치 제조의 높은 정확도 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. TENCOR 2810 시스템은 10 배 현미경을 사용하여 반도체 기능 크기의 결함을 정확히 측정하고 1/4 미크론까지 식별합니다. 이 장치의 고급 (Highly Advanced) 알고리즘을 사용하면 결함을 현저한 정확도로 완벽하게 형성된 피쳐와 찾고 구별할 수 있습니다. 기계는 최대 3 개의 칩을 동시에 스캔하고 측정할 수 있으므로 처리율이 매우 빠릅니다. 2810은 입자, 공백, 게이트 및 접촉 반바지, 탈구, 공백, 라인 너비 및 라인 에지 거칠기, 사이드월 (sidwall) 및 모양 유도체를 포함한 전기 및 물리적 결함을 모두 감지 할 수 있습니다. 이 도구는 또한 다크필드 (darkfield) 와 브라이트필드 이미징 (brightfield imaging) 과 산포 이미징 (spatter imaging) 을 모두 사용할 수 있으므로 광학 해상도 제한 이하의 결함을 감지 할 수 있습니다. 이 자산은 KLA/TENCOR 2810의 고급 광학 감지 기능 외에도 오버레이, 피치, 너비, 길이, 면적 등 다양한 측정을 수행 할 수 있습니다. 이 모델은 또한 외부 ADR (Automatic Defect Review) 장비에 대한 인터페이스를 제공하며, 이를 통해 KLA 2810은 미리 정해진 규칙과 패턴을 기반으로 신속하고 효율적으로 결함을 분류 및 분류 할 수 있습니다. TENCOR 2810 (TENCOR 2810) 은 다용도, 고정밀 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템으로, 탁월한 정확도와 반복성으로 결함을 감지하고 측정합니다. 이 장치는 단일, 고속, 자동 프로세스에서 광범위한 전기/물리적 특성을 감지하고 측정 할 수 있습니다. 고급 알고리즘과 이미징 덕분에 2810은 1/4 미크론 수준의 결함을 감지할 수 있으며, 단 한 번의 클릭으로 검증 및 측정 프로세스를 반복하여 반복성 (repeatability) 을 제공할 수 있습니다. 이것은 KLA/TENCOR 2810을 반도체 제조 공정에서 귀중한 도구로 만듭니다.