판매용 중고 KLA / TENCOR 2606 #199591

KLA/TENCOR 2606은 반도체 웨이퍼 및 마스크의 결함을 감지하기 위해 설계된 최첨단 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. Interchangeable Reticles Adaptor 및 Optical Source가 포함되어 있으므로 탁월한 정확성과 해상도를 제공합니다. KLA 2606은 원격 중심 광학 (Telecentric Optics) 과 독점 알고리즘 (Proprietary Algorithm) 의 조합을 사용하여 허위 경보 속도가 매우 낮은 결함 영역을 감지하고 찾습니다. TENCOR 2606의 원격 중심 광학 (Telecentric optics) 은 전체 표본에 대해 가벼운 패턴을 캐스팅 할 수있는 능력으로 유명합니다. 광원으로부터의 거리를 번갈아 가면서 발생하는 수차 (수차) 를 제거하여 정확하게 집중된 검사를 할 수 있습니다. 동시에, 시스템의 z축 (Z축) 드라이브는 제어 동작을 통해 표본을 이동하여 정확한 스캔을 보장하는 반면, 듀얼 스테이지 (dual-stage) 필터는 불필요한 배경 노이즈를 신속하게 제거합니다. 정확한 측정 데이터는 집적 회로의 최적의 성능을 보장하는 데 필수적입니다. 2606은 가장 정확한 매개변수를 식별하기 위해 마스크 지형 (mask topography), 패턴 (pattern) 및 왜곡 (distortion) 의 효과를 고려합니다. 예를 들어, 에지 배치 (edge placement) 를 미크론 (micron) 의 일부까지 측정하여 제조 제품의 최고 품질을 보장합니다. KLA/TENCOR 2606은 wafer mask 기판의 넓은 영역을 빠르게 스캔하는 동시에 비용 효율적인 솔루션을 제공합니다. 이 장치에는 200 메가 픽셀 Area Array Camera (중단 없이 최고 속도로 작동하는 이미지 캡처 메커니즘) 가 장착되어 있습니다. 이 제품은 복잡한 이미지를 정확한 디지털 정보로 줄이는 4 개의 12 비트 ADC를 사용하여 ULSIC (Ultra Large Scale Integrated Circuit) 제작에서 기계 디자이너에게 이상적인 선택입니다. KLA 2606은 고속 생산 라인 검사를위한 완벽한 동반자입니다. 이 툴은 다양한 프로그래밍 옵션을 제공하므로 다양한 애플리케이션 (application) 에 대한 검사 (inspection) 프로세스를 사용자 정의할 수 있습니다. 자산의 자동화 기능을 통해 빠른 설정과 조정이 가능하며, 순차 분석을 통해 시간을 절약할 수 있습니다. 이러한 모든 기능을 통해 TENCOR 2606은 현대 반도체 기술 개발을위한 필수 불가결한 도구가되었습니다.