판매용 중고 KLA / TENCOR 2552 #9083783

KLA/TENCOR 2552는 반도체 생산을 위해 설계된 최첨단 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 광범위한 반도체 소재, 크기, 복잡성 등에 걸쳐 고급 이미징 (advanced imaging) 및 자동, 매우 민감한 결함 검사에서 최첨단 성능을 제공합니다. 또한 KLA 2552 시스템은 결함 분류, 데이터 수집, 추세 분석, 보고 등을 자동화하는 포괄적인 소프트웨어 패키지를 제공하므로 프로세스 품질 및 처리량을 향상시키는 데 필수적인 툴입니다. TENCOR 2552 장치의 고급 광학 머신 (Advanced Optical Machine) 은 마스크 및 웨이퍼 표면의 신속한 이미징을 가능하게 하며, 더 빠른 속도와 회선 속도를 위한 부드러운 이미지 전송 및 병렬 처리를 지원합니다. 이 레이저 스캔 광학 아키텍처는 또한 모션 아티팩트 (motion artifact) 를 최소화하고, 높은 해상도, 이미지 유연성 및 조명각을 제공하여 매우 작은 결함을 테스트하고 검사하는 짧은 스팟 사이즈 레이저를 갖추고 있습니다. 2552 도구는 작은 결함 및 비 분화 미립자를 식별하기위한 고급 결함 이미징 알고리즘 (advanced defect imaging algorithm) 을 포함하여 다양한 기술을 포함합니다. 또한 다양한 각도와 조명 수준에서 고해상도 이미징에 대한 편광, 컨투어, 에지 검출, 패턴 인식 등 다양한 조명 기술을 지원합니다. 에셋은 또한 웨이퍼 (wafer) 또는 마스크 (mask) 의 표면을 가로 질러 다양한 지점에서 결함 정보를 수집하는 유연한 데이터 획득 모델을 제공합니다. 마지막으로, 이 장비에는 수집된 데이터를 관리하고 분석하고, 경향 분석, 결함 추적, 통계 프로세스 제어를 통해 높은 수율과 프로세스 최적화 (process optimization) 를 보장할 수 있는 강력한 소프트웨어 제품군이 장착되어 있습니다. 전반적으로, KLA/TENCOR 2552는 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템으로, 정교한 소프트웨어 도구와 함께 뛰어난 성능을 제공합니다. 이 장치는 고해상도 및 반복 가능한 이미징, 정확한 결함 식별, 데이터 수집, 프로세스 제어 (process control) 기능을 제공하여 운영 및 연구 모두에 필수적인 툴입니다.