판매용 중고 KLA / TENCOR 2552 #293800563

KLA/TENCOR 2552 Mask & Wafer Inspection Equipment는 반도체 마스크, 웨이퍼 및 포토 마스크의 결함을 감지하도록 설계된 고성능 광학 검사 솔루션입니다. 클라 2552 (KLA 2552) 는 고대비 이미징 기능으로 허위 경고 (False Defect Alarm) 를 신속하고 자동화하여 검사 정확성과 처리량을 향상시킵니다. 이 시스템의 첨단 광학 기술로는 초소형 라인 너비 (line-width) 와 평면 표면 (flat surfaces) 의 감지 및 이미징, 매우 민감한 실시간 명암비 조정, 기능 및 결함의 자동 인식, 작은 기능에 대한 광대역 분석 등이 있습니다. 이러한 모든 기능은 빠른 검사 프로세스 (fast inspection process) 를 통해 고유한 모듈식 플랫폼에 통합됩니다. 텐코 2552 (TENCOR 2552) 의 핵심에는 첨단 명암비 이미징 기술이 있는데, 이를 통해 장치가 다양한 마스크 및 웨이퍼 기판의 기능과 결함을 정확하게 감지하고 분류 할 수 있습니다. 단일 소스 조명기 (single-source lumination machine) 를 사용하여이 도구는 사람의 눈보다 작은 0.1 m 선과 공간을 감지 할 수 있습니다. 강력한 대비 탐지기 (power contrast detector) 는 각 피쳐나 결함의 대비를 정확하게 측정하고 분류하여, 자산이 미리 정해진 기준과 일치하지 않는 것을 식별하고 플래그를 지정할 수 있도록 합니다. 이 모델은 또한 특허를 받은 라인 스페이스 (line-space) 측정 기능을 사용하여 라인 쌍 사이의 중요한 공간을 정확하게 측정하고, 일관되고 정확한 결함 인식 (defect recognition) 을 위해 대비 설정을 사용자 정의합니다. 이것은 고품질 프로세스를 제공하며 잘못된 경고를 제거하는 데 도움이됩니다. 또한 2552는 밝기 (brightfield), 어두운 필드 (darkfield), 색상 (color), 극성 (polarized) 등 다양한 이미징 모드를 제공하여 사용자가 각기 다른 기판 및 프로세스 요구 사항을 충족할 수 있는 이미징 요구를 사용자 정의할 수 있습니다. 전반적으로 KLA/TENCOR 2552 Mask & Wafer Inspection Equipment는 광학 검사에서 사용할 수 있는 최고 수준의 정확성과 다양한 이미징 기능을 제공합니다. 이 시스템의 고급 광학 기술과 자동 감지 (automated detection) 프로세스를 통해 마스크 및 웨이퍼 기판을 빠르고, 정확하며, 안정적으로 검사할 수 있습니다.