판매용 중고 KLA / TENCOR 2552 #293591921

KLA/TENCOR 2552는 집적 회로 제작에서 가장 작은 결함을 감지하기 위해 설계된 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 두 개의 도구를 하나의 단위, 즉 산란 측량 (scatterometry) 과 시야선 (line-of-sight) 이미징에 통합하는 혁신적인 비전 시스템이 특징입니다. 산란 측량 (Scatterometry) 은 빛을 사용하여 마스크의 재료를 측정하고 잠재적 결함을 식별하는 반면, 시야선 이미징은 에칭 (etching) 이나 잔류 (residue) 와 같은 더 큰 결함을 신속하게 식별하는 데 도움이됩니다. 빠른 속도, 높은 해상도, 높은 정확도를 자랑하는 KLA 2552 는 마스크 및 웨이퍼 검사를 위한 업계 최고의 툴입니다. TENCOR 2552는 제작 과정에서 각 마스크와 웨이퍼를 검사하는 인라인 (inline) 기계입니다. 마스크 또는 웨이퍼의 패턴 이미지를 캡처하고 분석하는 2 개의 디지털 카메라와 2 개의 빔 추출기 (beam extractor) 가 있습니다. 이 도구의 혁신적인 비전 자산 (vision asset) 을 사용하면 물리적 결함과 포토 마스크 결함을 매우 정확하게 감지 할 수 있습니다. 모델에서 사용하는 고해상도 카메라는 정확한 결함 로컬라이제이션 및 측정을 가능하게 합니다. 2552는 단일 장비로 photomask 및 wafer 결함을 검사하도록 설계되었습니다. 다이 레벨 (die-level) 및 웨이퍼 레벨 (wafer-level) 결함을 높은 정밀도로 분석 할 수 있습니다. 이 시스템은 0.3 크기만큼 작은 결함을 감지할 수 있으며, 오염을 파악하고 확산을 방지할 수 있습니다. 또한, 이 장치는 사용자에게 photomask 이미지에 이상 (anomalies) 또는 수차 (aberration) 가 있음을 경고할 수 있습니다. KLA/TENCOR 2552에는 지능형 결함 감지 (Intelligent Defect Detection) 가 장착되어 있어 수동 검사가 필요 없으며 결함 감지가 훨씬 빨라집니다. 또한 이미지 기능 추출 기술 (Image feature extraction technology) 이 장착되어 있어 마스크의 레이어 레벨 결함 및 수차를 감지 할 수 있습니다. KLA 2552 는 지능형 결함 감지 알고리즘과 고속 검사 (high-speed inspection) 기능을 통해 처리량을 극대화하면서 가장 미묘한 결함을 찾아낼 수 있습니다. TENCOR 2552는 높은 처리량과 높은 정확도를 제공하도록 설계된 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 머신입니다. 혁신적인 비전 툴 (vision tool) 과 고해상도 (high-resolution) 카메라는 마스크 및 웨이퍼 제작의 가장 작은 결함까지도 빠르고 정확하게 식별합니다. 지능형 결함 감지 알고리즘과 이미지 기능 추출 기술 (Image Feature Extraction Technology) 은 모든 반도체 제조 플랜트에 귀중한 도구입니다.