판매용 중고 KLA / TENCOR 2435 Viper #293636835

KLA/TENCOR 2435 Viper Mask & Wafer Inspection Equipment는 석판 마스크 및 웨이퍼에서 집적 회로 레이어의 품질을 검사하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 비전 (vision) 과 자동 인쇄 (automated printing) 기술을 모두 사용하여 이러한 중요한 계층을 신속하고 고해상도 이미징합니다. Viper의 통합 광 및 이미징 구성 요소는 레이저 기반, 3 차원 결함 감지 및 이미지 처리 기능을 통해 빠르고 정확한 검사를 수행할 수 있습니다. 바이퍼 (Viper) 의 초정밀 옵틱 (optics) 을 사용하면 가장 높은 해상도에서 마스크와 웨이퍼의 결함을 신속하게 감지하고 디지털로 특성화할 수 있습니다. 자동 스캔 패턴 일치 (Automated Scan Pattern Matching) 및 스프레딩 (Spreading) 기능을 통해 수동 검사에 필요한 시간의 일부분에서 한 번에 여러 레이어를 신속하게 검토할 수 있습니다. 또한 최대 256x256 픽셀 해상도 (Pixel Resolution) 기능을 지원하므로 더 높은 Fidelity Imaging이 보다 복잡한 결함 유형을 신속하게 식별할 수 있습니다. 바이퍼 (Viper) 의 고급 이미지 분석 알고리즘은 임의의 각도에서 분석을 가능하게 하여 결과의 최대 일관성을 제공합니다. 지능형 결함 감지 알고리즘은 결함 및 패턴에 대한 신호 대 잡음 비율을 정확하게 계산하도록 설계되었습니다. 유연한 사용자 인터페이스, 수동/자동 검토 모드, 선택 기준, 보고서 기능을 갖춘 유연한 바이퍼 (Viper) 머신은 복잡한 집적 회로 계층을 검사하기에 이상적인 플랫폼을 제공합니다. 바이퍼 (Viper) 는 정교한 센서와 탐지기 세트를 사용하여 이미지와 데이터를 빠르고 정확하게 캡처합니다. 여기에는 펄스 레이저 다이오드, 다중 스펙트럼 필터, 프로그래밍 가능한 조명 광학 및 마스크 및 웨이퍼의 기능과 결함을 정확하게 감지하는 특수 동작 제어 알고리즘이 포함됩니다. 바이퍼 (Viper) 는 또한 여러 대의 카메라와 조명기를 장착하여 다양한 각도로 이미지를 캡처하여 데이터의 일관성과 정확성을 보장합니다. 사용이 간편한 소프트웨어와 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 바이퍼 (Viper) 는 데이터를 쉽게 구문 분석하고 결함 위치, 면적당 결함, 결함 크기 등 메트릭을 추출할 수 있습니다. KLA 2435 Viper Mask & Wafer Inspection Tool은 다양한 산업과 어플리케이션에 적합한 자산입니다. 정교하지만 다목적 플랫폼은 고급 3 차원 이미징 기능, 빠른 검사 속도 및 뛰어난 결함 감지를 제공합니다. Viper 는 포괄적인 소프트웨어, 사용자 친화적 인터페이스, 풍부한 기능 등을 갖추고 있어 안정적이고 강력한 마스크/웨이퍼 (wafer) 검사를 위한 강력한 툴입니다.