판매용 중고 KLA / TENCOR 238 #293595764

KLA/TENCOR 238은 IC (Integrated Circuit) 및 전자 장치 제조에 사용되는 기타 부품과 같은 장치를 검사하도록 설계된 고급 반도체 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 석판화 마스크 (lithographic mask) 와 인쇄된 웨이퍼 (wafer) 패턴의 결함을 확인하고 검사하도록 설계되었습니다. KLA 238은 최첨단 패턴 인식 장치 (State-of-art pattern-recognition unit) 를 사용하여 특정 표시를 식별하며, 회절을 감지하는 데 사용할 수 있는 고해상도 이미지 (high resolution image) 와 마스크 또는 웨이퍼 패턴의 정확성을 분석하는 데 사용할 수 있습니다. 또한 다양한 고감도 필터 (high sensitivity filter) 를 사용하여 이미징 환경에서 소음과 간섭을 없앨 수 있습니다. 이 기계는 고급 광학 기술 (Optics Technology) 을 사용하여 고해상도 출력으로 마스크 패턴 또는 웨이퍼 패턴의 안정적인 이미지를 제공합니다. 이 도구는 또한 이미저 (imager) 의 시야에서 미세한 세부 사항을 감지 할 수있는 고속 자동 초점 메커니즘을 제공합니다. 이 자산은 다양한 광원을 사용하여 레이저뿐만 아니라 UV, 파란색, 녹색 LED 등 데이터를 캡처합니다. 이러한 다양한 광원은 확장 된 범위의 명암비 (contrast) 기능을 제공하여 모델이 미묘한 마스크 또는 웨이퍼 결함을 식별 할 수 있습니다. 또한 TENCOR 238은 다중 필드 이미징 (multiple-field imaging) 및 확대 (magnifying) 기능을 통합하여 한 번에 최대 20개의 다양한 시야를 검사할 수 있습니다. 이 장비는 또한 광범위한 분석된 이미지를 저장할 수 있으며, 이를 통해 사용자는 아카이빙 (archival) 또는 향후 참조 (reference) 를 위해 이미지를 보고, 저장하고, 아카이빙할 수 있습니다. 또한 238에는 정확한 결과를 보장하는 여러 기능이 있습니다. 그러한 특징 중 하나 는, "마스크 '와" 웨이퍼' 무늬 의 작은 결함 을 정확 하게 식별 할 수 있게 해 주는 개선 된 "레이저 '초점 장치 이다. 또한 이 기능을 사용하면 잘못된 경보를 줄일 수 있고, 정확한 결과를 얻을 수 있는 비용을 줄일 수 있습니다. 이 장치는 또한 이미징 프로세스 (Imaging process) 에 사용되는 양과 광원 (Light) 유형을 조정할 수 있는 유연성을 가지고 있으며, 다양한 이미징 조건에서 향상된 결과를 얻을 수 있습니다. 마지막으로, 이 기계는 수많은 안전 기능으로 설계되어 운영자 (operators) 와 장비 (equipment) 에 대한 손상 또는 피해 가능성을 줄였습니다. 모든 내부 렌즈는 자체 청소 (self-cleaning) 방식으로 사용하기 쉽고 문제를 일으킬 가능성이 적습니다. 게다가, 이 도구 는 우발적 인 화상 이나 핫스팟 (hot spot) 에 대한 문제 를 최소화 하여, 사용자 나 장비 에 대한 손상 가능성 을 더욱 낮출 수 있도록 설계 되었다. 결국, KLA/TENCOR 238은 감도와 정확도가 향상된 정확한 이미지를 제공하도록 설계된 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 에셋입니다. 이 모델은 품질 보증 (Quality Assurance) 및 생산 운영에 적합하며, 마스크와 웨이퍼의 고해상도 이미지를 빠르고 정확하게 제공합니다. 이 장비의 고급 기능 (Advanced Features) 과 안전 측정 (Safety Measures) 은 반도체 장치에서 하이엔드 기술을 검사하는 데 이상적인 도구입니다.