판매용 중고 KLA / TENCOR 2351 #9136720

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KLA / TENCOR 2351
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ID: 9136720
High resolution imaging inspection system, 8"-12" Dual FIMS EFEM, 12" GEM SECS and HSMS Signal light tower XENON Lamp, 150 W Wave length of illumination: 370 ~ 720 nm Wave length band: Visible, UV and i-line Pixel size: 160 ~ 250 nm User Interface (Ul) Computer monitor Wafer display Industrial PC (IPC) Image computer (IMCs) Inspection station: Granite suspension power Stage cooling: Blower Optics plate pneumatics Air filter Wafer handler (EFEM) Dual open, 8"-12" Dual SMIF, 8" Dual FIMS, 8"-12" Missing parts: Hard Disk Drive (HDD) Keyboard, mouse and joystick Solenoid board LP2 Cover and robot controller Ul and IS Cable RGB Cable RS232 Cable Joystick cable EMO Cable (4) IMACS TO UI Cables (2) AZP FFA Cables MIB Cable Digital camera cable 2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350은 반도체 산업에서 사용하도록 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 반도체 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 (mask) 의 세부적인 이미지와 측정을 수집하기 위한 고성능, 비용 효율적인 도구입니다. KLA 2350 은 서브미크론 해상도 (submicron resolution) 에서 신속하게 데이터를 수집, 분석하여 빠르고 정확한 웨이퍼 검사, 결함 감지, 품질 관리 기능을 제공합니다. 텐코 2350 (TENCOR 2350) 은 고급 옵틱 설계를 통해 유사한 눈부신 격자 마스크에 비해 해상도 이미징 및 소음 대비 신호 비율이 우수합니다. 또한 고정밀도 플라즈마 기반 MOEMS (Microelectro-mechanical) 스캔 단계를 활용하여 웨이퍼와 마스크를 빠르고 반복적으로 스캔합니다. 2350은 왜곡없이 넓은 시야 (12 "x 12") 를 가지며, 평면 및 원형 구조에 대한 광범위한 검사 작업을 허용합니다. KLA/TENCOR 2350에는 1.3메가픽셀 고성능 센서가 장착되어 있어 빠르고 정확하게 데이터를 수집할 수 있습니다. 이 센서는 브라이트필드 (brightfield), 다크필드 (darkfield), 스티치된 이미지 등 다양한 모드로 구성할 수 있습니다. 또한 다양한 이미지 처리 기능뿐만 아니라 전체 결함 검토, 분류, 비교 도구 (full suite of defect review, classification, and comparison tools) 도 갖추고 있습니다. 고급 마스크 검사 응용 프로그램의 경우, KLA 2350에는 내장 고해상도 복조 시스템이 있으며, 이는 기존 시스템보다 더 많은 정확도를 제공 할 수 있습니다. 복조 장치는 실시간으로 모서리 감지, 결함 격리 및 결함 인식 작업을 수행 할 수 있습니다. 또한 TENCOR 2350 은 성능 향상을 위해 다른 기기와의 통합을 용이하게 해주는 통합 호스트 소프트웨어 아키텍처 (Integrated Host Software Architecture) 를 갖추고 있습니다. 2350은 반복적이고, 신뢰할 수있는 검사, 측정 및 분석이 필요한 어려운 응용 프로그램에 이상적입니다. 리서치 사이언티스트 (Research Scientist) 에서 대용량 생산 라인 (Production Line) 에 이르기까지 다양한 고객의 구체적인 요구에 맞게 구성할 수 있도록 설계되었습니다. 이 기계는 실험실과 프로덕션 환경에서 모두 사용할 수 있으며, 품질 관리 (Quality Control) 를 향상시키고 프로세스 결함을 줄이기 위한 효과적인 솔루션을 제공합니다.
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