판매용 중고 KLA / TENCOR 2350 #9296887

KLA/TENCOR 2350 Mask and Wafer Inspection 장비는 대용량 반도체 생산의 처리량과 정확성을 극대화하기 위해 설계된 최첨단 이미징 및 검사 시스템입니다. 이 장치는 고급 광학 (Optical) 및 이미징 (Imaging) 기술을 활용하여 제조 과정에서 마스크와 웨이퍼를 효율적으로 검사합니다. 첫째, KLA 2350은 마스크와 웨이퍼의 고해상도 이미지를 모두 입수합니다. 이 기계는 회절 기반 이미징을 사용하여 기능과 결함의 정확한 획득을 보장합니다. 이 이미징 도구에는 또한 이미지 분할을 사용하여 검사 정확도를 향상시키는 통합 비전 (Integrated Vision) 에셋이 포함되어 있습니다. 이 통합 비전 모델은 미세 및 서브 미크론 등급 (submicron-grade) 기능과 결함을 신속하게 감지하고 정확하게 분류하는 데 사용됩니다. 또한 TENCOR 2350 (TENCOR 2350) 은 고급 패턴 인식 알고리즘을 사용하여 마스크와 웨이퍼를 모두 분석하여 존재할 수있는 결함 또는 이상을 식별합니다. 이 패턴 인식 장비는 스크래치, 공백, 핀홀, 전위 (dislocation) 등 다양한 유형의 결함을 신속하게 감지할 수 있습니다. 시스템이 이러한 결함을 확인한 후, 보고하거나 프로세스 개선에 대한 조언을 제공 할 수 있습니다. 마지막으로 2350에는 고성능 스펙트럼 이미징 장치가 있습니다. 이 기계는 마스크와 웨이퍼의 미묘한 결함을 감지할 수 있는 고정밀 (high-precision) 스펙트럼 이미징을 제공합니다. 스펙트럼 이미징 (spectral imaging) 은 고출력 필터와 결합하여 결함의 위치와 크기를 정확하게 식별합니다. 이러한 모든 기능을 통해 KLA/TENCOR 2350은 대용량 반도체 생산을위한 매력적인 검사 도구가되었습니다. 고해상도 이미징, 통합 비전, 고급 패턴 인식 알고리즘, 고밀도 스펙트럼 이미징 등의 조합을 통해 KLA 2350은 허위 감지 및 허위 경보 가능성을 최소화하면서 마스크와 웨이퍼를 정확하고 신속하게 검사할 수 있습니다. 따라서 각 운영 운영이 그 어느 때보다 효율적이고 정확합니다.