판매용 중고 KLA / TENCOR 2350 #9270188
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판매
ID: 9270188
웨이퍼 크기: 8"-12"
빈티지: 2001
High-resolution imaging inspection system, 8"-12"
Dual open EFEM, 8"
GEM SECS and HSMS
Signal light towers: (4) Colors (R, Y, G, B)
Xenon lamp: 150 W
Wavelength illumination: 370~720 nm
Wavelength band: Visible, UV, I-line
Pixel size: 160~250 nm
User interface:
Monitor
Wafer display
Industrial PC (IPC)
Image computer (IMCs)
(48) IMC Boards
Does not include MM2S Board
Inspection station:
Granite suspension: Power
Cooling stage
Pneumatics optics plate
Air filter
Wafer handler (EFEM):
Dual open, 8"-12"
Dual SMIF, 8"
Dual FIMS, 8"-12"
Missing parts:
Lower monitor
Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: 5 V
Keyboard, mouse and joystick
Solenoid board with valve
AF LED 1 Board
LP2 Cover
Y1 Flex board
(2) FVPA Boards
Robot controller
Fan Filter Unit (FFU)
UI and IS connecting cable
RGB Cable
RS232 Cable
Joystick cable
EMO Cable
(4) IMACS to UI Cables
(2) AZP FFA Cables
MIB Cable
Digital camera cable
2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350은 반도체 장치 제조를 위해 설계된 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 반도체 소자의 표면에서 가장 작은 오염 물질 (contaminant) 의 입자와 손상을 빠르게 찾아서 식별하기 위해 이미지 처리, 시각화 (visualizing), 특성 (characterizing) 결함을위한 여러 기술과 기술이 결합되어 있습니다. KLA 2350 광학 시스템은 이중 광원 코히런트 조명 (coherent illumination) 과 하이 다이내믹 레인지 이미징 (high dynamic range imaging) 을 사용하여 수동 검사의 필요성을 줄이고 표면 및 기능의 최적화된 영상을 만듭니다. 또한 다양한 웨이퍼 (wafer) 기판에 자동으로 적응하여 방향과 크기에 관계없이 고해상도 이미지를 캡처할 수 있습니다. 또한, 간섭 현미경 이미징 장치는 매우 상세한 데이터 캡처 및 분석을 위해 4 배 확대 (magnification) 할 수 있습니다. KLA 독점 MCVP (Multi-Command Vector Processor) 는 캡처된 이미지를 실시간으로 평가하고 현지화된 결함을 검색하는 데 사용되며, 이 값은 기계에 의해 분할되고 식별됩니다. 이러한 직접 로컬 결함 감지 (Direct Local Defect Detection) 원칙은 전체 데이터 크기를 줄여 기존의 SEM/EDS 기반 도구에 비해 빠르고 정확한 분석을 가능하게 합니다. 또한 다양한 샘플 (sample) 유형과 호환되므로 다양한 애플리케이션에 적용할 수 있습니다. 또한, TENCOR CAM (Contamination Area Mapping) 기능은 TENCOR 2350 분석 기능과 완벽하게 통합되어 웨이퍼에서 총 결함을 감지하고 조사하며, 사용자에게 의미있는 정보를 제공하고 검사 시간과 비용을 절감합니다. 자산은 FIPS 규격 (FIPS Compliant) 이므로 모든 데이터는 정부 기준에 따라 무단 액세스로부터 보호됩니다. 전반적으로, 2350 (2350) 은 효율적인 방법으로 가장 작은 결함을 감지하고 검사하도록 설계된 지능형, 고성능 표면 재료 검사 모델입니다. 이 장비는 강력한 광학 장치 (Optics) 와 고급 분석 기술 (High-Grade Analysis Technologies) 의 조합으로 생산 및 연구 작업에 필요한 정확성과 데이터를 제공합니다.
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