판매용 중고 KLA / TENCOR 2350 #9250155

KLA/TENCOR 2350은 마이크로 전자 장치 생산에 사용되는 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이미징 기술, 고급 패턴 인식 알고리즘 및 높은 정확도 오버레이 (overlay) 측정을 결합하여 마스크와 웨이퍼 모두에서 결함을 감지합니다. 정밀하고 신뢰할 수 있는 결함 측정 (complex pattern) 을 제공하도록 설계되었습니다. KLA 2350은 SEM (Scanning Electron Microscope) 을 사용하여 집적 회로, 마스크 및 웨이퍼를 이미지화합니다. 이를 통해 가장 작은 결함조차도 감지 할 수 있습니다. 자동 검사를 위해 특별히 설계된 알고리즘을 사용하여 TENCOR 2350은 입자 및 패턴 기반 결함 (예: 잔기 및 산화) 을 모두 감지 할 수 있습니다. 고성능 이미지 프로세서는 결함을 신속하게 감지하는 데 사용되며, 강력한 광 필터 (optical filter) 및 신호/소음 처리 (signal/noise processing) 기술을 통해 정확하고 안정적인 측정이 가능합니다. 이 시스템은 웨이퍼 패턴을 특성화하고 품질 제어 (Quality Control) 및 프로세스 제어 표준을 검증하는 데에도 사용될 수 있습니다. 고급 오버레이 측정 기능은 오픈 소스 (open source) 알고리즘을 사용하여 샘플링된 구조의 패턴 및 오버레이 정밀도를 계산합니다. 이를 통해 생산이 정확하고, 처리 시간이 단축되고, 처리량이 늘어납니다. 2350 은 다른 시스템과 통합될 수 있으므로 운영 라인 운영자가 각 웨이퍼를 수동으로 검사하지 않고도 손쉽고 효율적인 방법으로 결함을 감지할 수 있습니다 (영문). 반도체 제조, 웨이퍼 제조 및 품질 제어에 이상적인 단위입니다. 이 기계는 휴대용이며 설치하고 사용하기 쉽습니다. 공구에 의해 생성 된 측정은 매우 정확하고 반복 가능합니다. 요약하면, KLA/TENCOR 2350은 매우 정확하고 신뢰할 수있는 마스크 및 웨이퍼 검사 자산입니다. 이미징 (Imaging) 및 패턴 인식 (Pattern Recognition) 알고리즘을 결합하여 가장 작은 결함까지도 감지하고, 다른 시스템과 통합하여 보다 효율적이고 편리한 품질 관리 기능을 제공합니다. 이 모델은 결함을 감지하는 빠르고 안정적인 방법을 제공하며, 반도체 제조, 웨이퍼 (wafer) 제조 및 품질 제어에 이상적인 솔루션입니다.