판매용 중고 KLA / TENCOR 2350 #9184410
이 품목은 이미 판매 된 것 같습니다. 아래 유사 제품을 확인하거나 연락해 주십시오. EMC 의 숙련된 팀이 이 제품을 찾을 수 있습니다.
판매
ID: 9184410
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2001
Imaging inspection system, 8"
Type: SMIF
Robot: Dual SMIF EFEM, 8"
GEM SECS and HSMS
Signal light tower
XENON Lamp: 150 W
Wave length illumination: 370 ~ 720 nm
Wave length band: Visible, UV, I-line
Pixel size: 160 ~ 250 nm
Stage: X, Y, Theta
(48) IMC Boards
MM2M and MM2S
Missing parts:
UI Main power cable
SOC Solenoid
2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350은 반도체 산업을 위해 특별히 설계된 아트 마스크 및 웨이퍼 검사 장비의 상태입니다. 이 시스템은 특히 칩 (chip) 이나 웨이퍼 (wafer) 의 성능에 영향을 줄 수 있는 오염 물질, 결함 및 기타 결함을 검사하도록 설계되었습니다. 이 장치는 고급 광학 (Advanced Optics) 과 디지털 이미징 (Digital Imaging) 기술을 조합하여 마스크 (Mask) 또는 웨이퍼 (Wafer) 의 전면 및 후면을 검사하여 가장 포괄적 인 검사 시스템 중 하나입니다. KLA 2350은 4 대의 카메라를 사용하여 정확한 3D 이미징 및 정확한 결함 위치를 달성합니다. 이 기계는 다양한 검사 모드에 4 파장 조명 (3 개의 밝은 필드, 1 개의 어두운 필드) 을 사용하여 입자, 긁힘, 균열, 구덩이 및 기타 불규칙적으로 형성된 입자와 같은 결함을 정확하게 감지 할 수 있습니다. 공구의 고급 광학 장치 (high-end optics) 는 습식 입자의 정확한 검출에도 적합합니다. TENCOR 2350은 다양하고 정확한 검사를 위해 다양한 기능을 갖추고 있습니다. 이러한 기능에는 마스크 및 웨이퍼의 자동 로드 및 언로드, 고급 패턴 왜곡 감지, 다중 조명 레벨, 경량 제어 에셋 등이 있습니다. 이 모델에는 결함 분석 및 보고를 위한 고급 소프트웨어 (Advanced Software for Defect Analysis and Reporting) 도 포함되어 있어 모든 문제를 신속하게 파악하고 해결할 수 있습니다. 2350은 또한 미립자 및 액체 오염 물질과 같은 공정 오염 물질에 대한 보호를 제공합니다. 내재된 오염 방지 장비 (contamination avoidance equipment) 는 검사 영역에서 들어오는 입자를 스크린하고, 이미 시스템에 들어간 입자를 감지할 수도 있습니다. 이것은 웨이퍼와 샘플 재료의 안전을 보장합니다. 전반적으로 KLA/TENCOR 2350은 고도의 유연한 마스크 및 웨이퍼 검사 장치입니다. 탁월한 옵틱, 디지털 이미징 시스템, 고급 소프트웨어 등으로 오염과 결함을 정확히 파악하고, 해결할 수 있습니다. 이 시스템의 상세한 실시간 보고 (Reporting) 및 고급 이미지 처리 툴을 통해 사용자는 최고의 수준의 제품 품질을 얻을 수 있습니다.
아직 리뷰가 없습니다