판매용 중고 KLA / TENCOR 2350 #9136721

KLA/TENCOR 2350 마스크 및 웨이퍼 검사 장비는 고성능 검사 플랫폼으로, 정확하고, 반복 가능하며, 자동화된 다중 계층 유전체 및 도량형 측정을 제공합니다. 이 시스템은 다이오드, OCT 및 선형 가변 회절 격자 (LVDP) 를 포함하여 리소그래피 시장의 특정 요구를 위해 개발 된 특수 광학을 사용합니다. 클라이 2350 (KLA 2350) 은 레티클과 웨이퍼에 유전체의 반사도와 산란을 모두 측정 할 수있다. 그것 은 355 "나노미터 '내지 730" 나노미터' 에 이르는 조율 가능 한 파장 을 가지고 있어서, 여러 가지 재료 와 응용 에 걸친 검사 에 적합 하다. 높은 동적 범위 (dynamic range) 와 뛰어난 감도 (sensitivity) 를 가지며 최대 0.4hm까지 해상도로 이미지를 제공 할 수 있습니다. 검사 장치에는 웨이퍼 부분 결함 분석, 레티클 풀스루 분석, 유전체 프로파일 측정 등 여러 전문 프로그래밍 알고리즘이 포함되어 있습니다. 이 제품은 Mura 감지, 자동 정렬, 이미지 스티칭을 포함한 강력한 이미지 처리 및 데이터 분석 기능과 통합됩니다. 이 컴퓨터에는 직관적인 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 가 포함되어 있어 편리하게 악기에 액세스하고, 구성하고, 제어할 수 있습니다. 또한 외부 데이터베이스에 대한 연결을 제공하므로 프로세스 데이터를 품질 관리 (quality control) 프로그램에 쉽게 연결할 수 있습니다. TENCOR 2350은 고급 포토마스크 (photomask) 및 웨이퍼 (wafer) 프로세스의 결함을 감지하는 데 소요되는 시간을 줄이고 일관된 결과를 제공하도록 설계되었습니다. 고급 이미지 처리 (image-processing) 기능을 통해 실시간 결함을 신속하게 감지하고 분석할 수 있습니다. 또한, 통합 도량형 및 자동 분석 소프트웨어는 단일 단계에서 정확하고 반복 가능한 유전체 특성을 가능하게합니다. 전체적으로, 2350 개의 검사 자산은 반도체 업계의 신뢰성 및 성능 제어를 위한 효율적이고 비용 효율적인 솔루션입니다. 레이저 회절, OCT, 다이오드와 같은 첨단 기술은 탁월한 정확성과 반복 성을 제공합니다. 통합 소프트웨어와 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 갖춘 이 제품은 시장에서 가장 효율적이고 안정적인 시스템 중 하나입니다.