판매용 중고 KLA / TENCOR 2139 #9244609

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ID: 9244609
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2008
Brightfield defect wafer inspection system, 8" 2008 vintage.
KLA/TENCOR 2139는 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 제품은 집적 회로 웨이퍼의 검사, 분석, 측정을 위해 설계되었으며, 제조업체가 신속하게 이상을 식별 할 수 있습니다. 이 시스템은 몰입 리소그래피 (immersion lithography) 또는 이중 패턴 (double patterning) 과 같은 고급 리소그래피 프로세스에 사용됩니다. KLA 2139 는 고유한 5 배의 광 빔 경로를 사용하여 결함 및 중요 매개변수에 대한 웨이퍼를 빠르고 정확하게 검사합니다. 매우 정확한 패턴 인식, 이상 감지, 리소그래피 마스킹 알고리즘은 검사 프로세스 전반에 걸쳐 민감한 장치를 면밀히 조사 할 수 있습니다. 또한 자동 결함 분류, 실시간 결함 검토, 프로세스 에지 매핑 (process edge mapping) 등 다양한 기능을 제공합니다. 이 기계에는 브라이트필드 (brightfield) 와 다크필드 (darkfield) 와 같은 고급 조명 기술과 백스캐터 이미징 (backscatter imaging) 및 근자외선 이미징 (near ultraviolet imaging) 과 같은 다양한 이미징 모드가 포함됩니다. 이 기술은 종종 전통적인 검사에는 보이지 않는 기능과 세부 사항 (details) 을 나타내는 데 도움이됩니다. 고급 조명, 이미징 모드, 패턴 인식 (pattern recognition) 기능을 결합하면 빠르고 해석하기 쉬운 결과와 보다 효과적인 의사 결정을 얻을 수 있습니다. TENCOR 2139는 또한 정렬, 오버레이 및 오버레이 편차 측정을 수행 할 수 있습니다. 이는 리소그래피 프로세스 동안 정확한 위치 지정에 필수적입니다. 이렇게 하면 전체 웨이퍼에 걸쳐 적용된 저항과 해상도의 두께가 일관되게 유지됩니다. 또한 비용이 많이 드는 마스크 수정 및 재작업을 줄입니다. 이 도구에는 독점 자동 초점 (auto-focusing) 기술이 적용되어 각 샷 전에 자동으로 웨이퍼에 초점을 맞춰 이미징 시간을 단축합니다. 강성 화강암 기반 구성 및 진동 격리 자산은 고밀도 생산 환경에서도 차원 공차를 점검합니다. 사용 편의성, 고급 기능, 유연성을 갖춘 2139는 고급 석판화 (lithography) 및 마이크로 일렉트로닉스 (microelectronics) 생산에 이상적인 도구입니다.
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