판매용 중고 KLA / TENCOR 2139 #9227709

KLA/TENCOR 2139는 차세대 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 오늘날 가장 발전된 반도체 프로세스 지오메트리의 고속, 높은 정확도, 고용량 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. KLA 2139는 4 차원 이미징 스테이션을 통해 극도의 정확성과 해상도로 날카로운 3D 이미지를 생성하고, 잠재적 결함을 정확히 감지하는 고급 패턴 인식 소프트웨어를 제공합니다. 단일 이미지에서 최대 4 개의 개별 검사 영역에 대한 동시 검사를 수행할 수 있으며, 데이터 분석 (data analysis) 과 해석 (interpretation) 을 효율적이고 정확하도록 설계된 향상된 사용자 인터페이스 (user-interface) 를 갖추고 있습니다. 이 시스템은 최적화 된 파이썬 (Python) 기반 이미지 처리 파이프 라인을 사용하여 개별 결함 및 이물질의 미세한 세부 사항을 캡처하기 위해 Pppoint 하위 픽셀 데이터 캡처를 사용합니다. TENCOR 2139 의 이미징 구성 요소에는 밝은 필드 및 다크 필드 (dark-field) 검출기 어레이와 빠른 데이터 수집 및 이미징을 위해 설계된 최적화된 광 장치가 모두 포함되어 있습니다. 또한 열전기 냉각 EMCCD (thermo-electric cooled EMCCD) 가 포함되어 있어 열 소음이 최소화되고 밝기가 최대화되어 고품질 이미징이 가능합니다. 이 기계는 고품질의 3D 이미징 기능 외에도 빠르고, 안정적이며, 사용하기 편리하도록 설계되었습니다. 고정밀도 (high-precision) 단계를 통해 공구가 여러 개의 검사를 빠르고 정확하게 수행할 수 있습니다. 초소형 입자를 검사할 수 있도록 다방향 조리개 (multi-directional aperture) 를 갖추고 있으며, 자동화된 결함 검토 스테이션과 통합하여 처리 능력을 강화할 수 있습니다. 2139 는 이미징 기능 외에도 다양한 검사 (inspection) 작업을 처리하도록 설계되었습니다. 독점적 인 전방향성 일치 알고리즘 (omni-directional matching algorithm) 을 통해 피쳐 패턴을 비교하고 검사 마스크 내에서 빠르고 정확하게 중심 할 수 있습니다. 이 자산은 지능형 (Intelligent) 알고리즘을 통한 결함 분류도 지원하며, 신뢰도가 다른 실시간 (Real Time) 의 결함을 감지할 수 있습니다. 마지막으로, 레이어 두께 측정, 구문 분석 (parsing) 기능 및 결함 정보를 수행하여 다양한 보고서 및 분석 세트를 생성할 수 있습니다. KLA/TENCOR 2139 는 고해상도 이미징, 고급 패턴 인식 알고리즘, 빠른 처리 속도를 결합해 반도체 업계의 마스크/웨이퍼 검사 표준이 됐다. 업계 최고의 성능과 사용 편이성을 자랑하는 이 제품은 최대 수준의 비용 효율적인 반도체 (semiconductor) 생산에 이상적인 솔루션입니다.