판매용 중고 KLA / TENCOR 2138 #9115814

KLA/TENCOR 2138 Mask & Wafer Inspection Equipment (KLA/TENCOR 2138 마스크 및 웨이퍼 검사 장비) 는 생산되는 동안 웨이퍼 및 기타 반도체 장치의 프로세스 패턴을 고속 검사하는 포괄적인 완전 자동화 솔루션입니다. 이 시스템은 반도체 제조업체가 전체 프로세스 제어를 최적화하여 결함을 줄이고 생산성을 향상시키도록 특별히 설계되었습니다 (영문). 이 장치는 마스크 및 웨이퍼 서피스의 결함을 탐지하는 데 도움이 되며, 탐지 정확도는 비교할 수 없습니다. 고급 이미지 처리 (advanced image processing) 를 사용하여 노이즈 및 비균일 조명의 영향을 최소화하여 미세한 기능을 식별합니다. 또한, 컨택트 홀 누락 (missing contact holes) 과 같은 에지 리소그래피 오류를 감지하여 공정의 수율을 높일 수 있습니다. 빠른 획득 속도로, 높은 처리량 카메라를 사용하여 여러 표본의 이미지를 한 번에 캡처하여 더 빠른 웨이퍼 (wafer) 처리를 가능하게 합니다. 이 시스템에는 또한 워크플로우 관리를 단순화하는 인체 공학적, 효율적인 운영자 인터페이스가 포함되어 있습니다. KLA 2138 도구는 향상된 웨이퍼 및 마스크 관리를 위해 다양한 기능을 제공합니다. 원격 사이트에 로그인하고, 부품을 선택하고, 이미지를 분석할 수 있는 다중 사이트 작업 스테이션 (multi-site work station) 역할을 합니다. 여기에는 웨이퍼 치수, 프로세스의 중요한 피쳐 간 거리 및 기타 관련 매개변수를 측정하기위한 업계 표준 트랜지스터 (Transistor) 레벨 도량형 기능이 포함됩니다. 또한 무분별 한 표면 거칠기를 측정 할 수도 있습니다. 자산의 자동 결함 검사 (automated defect inspection) 모드는 최대 3 배율로 실시간으로 웨이퍼를 검사하도록 설계되었습니다. 고급 알고리즘을 사용하여 웨이퍼 (wafer) 가장자리의 칩과 결함을 식별 할 수 있습니다. 높은 정확성을 보장하기 위해, 모델은 최적화된 패턴 검사와 동시 결함 위치 측정을 제공하는 다양한 비전 (vision) 시스템을 제공합니다. TENCOR 2138 마스크 및 웨이퍼 검사 장비는 문서 및 녹음 기능도 제공합니다. 각 측정 세션은 데이터베이스에 저장되며, 각 단계는 모든 매개변수와 함께 기록됩니다. 생성된 보고서에는 검사된 각 wafer 또는 마스크에 대한 자세한 정보가 들어 있습니다. 이는 다른 패턴 수준에서 결함 분포에 대한 신뢰할 수있는 통계를 제공하는 데 도움이됩니다. 자동화된 결함 인식 및 보고 기능을 갖춘 2138 마스크 & 웨이퍼 검사 시스템 (Mask & Wafer Inspection System) 은 반도체 제조업체가 프로세스 시간을 줄이고 결함 수율을 향상시키는 데 적합한 완벽한 솔루션입니다. 다양한 기능/기능을 통해 다양한 운영/프로세스 요구 사항을 충족할 수 있는 최고의 품질 (QoS) 을 효과적으로, 효율적으로 보장할 수 있습니다.