판매용 중고 KLA / TENCOR 2135 #9252720

KLA/TENCOR 2135는 KLA 및 TENCOR의 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 마스크 포토 마스크 (Mask Photomask) 와 반도체 웨이퍼 (Semiconductor Wafer) 에 대한 고속, 고해상도 및 고해상도 검사를 제공하는 고급 시스템입니다. 이 장치는 마스크 및 웨이퍼 이미징 용 CCD (Dual Capacitance Charged Coupled Device) 카메라를 갖추고 있으며, 400 ns 노출 시간이 빠른 피치에서 최대 2125 nm 높이의 고해상도 이미지를 제공합니다. 또한 2 개의 LED (Light Emitting Diode) 시스템을 갖추고 있으며, 2 개의 파장으로 작동하며, 제품의 절대 피치와 일치하며, 가장 어려운 결함까지 일관되게 감지합니다. KLA 2135는 최첨단 반도체 장치의 결함 제로 생산을 용이하게하도록 설계되었습니다. 심층적 분석 (in-depth analysis) 을 통해 결함을 감지하고 분류하고, 여러 마스크 레이어에 걸쳐 유사한 결함 사이의 연결을 매핑하는 강력한 검사 프로세스를 제공합니다. 또한 특수 ADA (Advanced Defect Analysis) 도구를 사용하여 Darkfield 및 Brightfield Imaging을 사용하여 인쇄 통과 결함을 포함하여 치명적 결함을 빠르고 정확하게 식별합니다. 또한, TENCOR 2135는 패턴 이동 및 라인 너비 변화를 감지하는 혁신적인 패턴 인식 알고리즘을 제공하여 중요한 설계 무결성을 유지하는 데 도움이됩니다. 생산성을 극대화하기 위해 2135는 빠른 다운로드 속도, 실시간 이미지 처리, 자동 다이 검사, 제품 결함의 실시간 평가를 제공합니다. 이 도구를 사용하면 터치스크린을 지원하는 GUI (Graphical User Interface) 를 통해 프로세스를 쉽게 설정하고, 데이터에 액세스하고, 동시에 여러 웨이퍼를 검사할 수 있습니다. KLA/TENCOR 2135는 직관적이고 친숙한 사용자 지향 GUI 및 특수 고급 소프트웨어 기능으로 생생하게 구현됩니다. 사용이 간편한 기능을 통해 모든 기술 수준의 운영자들은 고급 성능 (Advanced Performance) 기능을 통해 신속하게 혜택을 누릴 수 있습니다. 결론적으로, KLA 2135는 반도체 산업을위한 고성능 마스크 및 웨이퍼 검사 자산이며, 강력한 결함 분석 기능을 통해 빠른 속도로 고정밀 이미징을 제공합니다. 고급 기능과 사용자 친화적인 기능을 통해 대용량 운영 요구에 이상적입니다.