판매용 중고 KLA / TENCOR 2133 #9395745

KLA/TENCOR 2133 마스크 및 웨이퍼 검사 (wafer inspection) 솔루션은 반도체 웨이퍼에 대한 복잡한 패턴을 검사하기 위한 고해상도 이미지와 측정 데이터를 생산할 수 있는 고급 도구입니다. 이 장비는 매우 작은 결함에 대한 감도가 높아졌으며, 선명하고 선명한 이미지를 위한 다중 파장 이미징 (multi-wavelength imaging) 을 제공합니다. 또한, 최첨단 비전 알고리즘은 빠른 검사 시간과 뛰어난 깃발 정확도를 제공합니다. KLA 2133 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템은 여러 가지 기능을 제공합니다. 첫째, 이 장치는 5 미터 미만의 기판 두께와 라인 피치 (line pitch) 를 포함하여 다른 기판 두께를 처리하도록 설계되었습니다. 또한 웨이퍼 스케일에서 100 mg/cm2 해상도에서 최고의 샘플 조명의 균일 성을 제공하고, 단일 다이에서 10 m를 제공합니다. 이 기계는 대칭 수차 (symmetric aberration) 수정을 갖춘 초고속 렌즈를 사용하여 빠르고, 정확하며, 반복 가능한 검사를 수행 할 수 있습니다. 또한, 여러 파장 및 편광 조명 (polarized lumination) 을 포함한 다양한 광학 옵션과 함께 임베디드 (embedded) 산란 도구와 함께, 고객은 제품을 설계할 때 더 많은 선택을 할 수 있습니다. TENCOR 2133 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 검사 자산에는 설치 시간을 단축하고 복잡한 패턴 구성을 용이하게 하는 사용자 친화적 인 소프트웨어 인터페이스가 제공됩니다. Defect LiberationTM 기술을 사용하여 사용자는 자동으로 최대 160 개의 패턴을 구별하여 수율을 향상시킬 수 있습니다. 이 모델은 데이터 탐색기 (Data ExpluctionTM) 검사 평가 형식으로 더욱 향상되었으며, 이를 통해 사용자는 검사 결과를 신속하게 탐색할 수 있습니다. 또한, 본 소프트웨어에는 보고 기능, 엔지니어가 패턴 상의 결함의 소스, 유형, 위치 등을 파악할 수 있도록 하며, 보다 나은 제어 및 RIB를 분석할 수 있습니다. 2133 마스크 및 웨이퍼 검사 장비는 IC, MEMS 및 LED 제조업체에 적합합니다. 이 시스템은 MEP (Modular Evaluation Platform) 와 완벽하게 호환되므로 여러 측정 시스템을 쉽게 통합하여 포괄적인 특성 솔루션을 제공할 수 있습니다. 혁신적인 마킹 및 병합 기술은 처리량을 증가시키는 반면, 새로운 색상 계층 자동화 (Color Layer Automation) 및 마커 감지 장치 (Marker Detection Unit) 는 전반적인 정확도를 높입니다. 빠른 자동 매칭 (automated matching) 과 정확한 매칭 (fact matching) 기술을 결합하면 검사 시간과 잘못된 장애 속도를 줄일 수 있습니다. 결론적으로, KLA/TENCOR 2133 마스크 및 웨이퍼 검사 솔루션은 신뢰성이 높고 정확한 검사 결과를 생성하도록 설계된 고급 기계입니다. 이 툴은 엔지니어가 자신의 운영을 효과적으로 관리할 수 있도록 사용자 친화적 인 인터페이스를 제공합니다. 다양한 기능과 옵티컬 옵션으로, 이 자산은 마스크 및 웨이퍼 검사 기능을 업그레이드하려는 IC, MEMS, LED 제조업체에 적합합니다.