판매용 중고 KLA / TENCOR 2133 #9150400

KLA/TENCOR 2133 Mask & Wafer Inspection Equipment는 포토 마스크 및 반도체 웨이퍼의 결함 감지 및 식별을 위해 설계된 포괄적이고 정확하고 자동화된 검사 시스템입니다. 이 장치는 고급 자동 현미경을 사용하여 미세한 입자, 오염 물질, 불규칙 또는 결함의 영역을 스캔합니다. 그런 다음, 현미경으로 생성 된 이미지를 표준 (establish standard) 과 비교하고 패턴을 허용할 수 있는지, 아니면 고쳐야 하는지를 결정합니다. KLA 2133 Mask & Wafer Inspection Machine에는 최고 수준의 결함 감지 및 정확성을 보장하는 고급 광학 경로가 있습니다. 이 도구에는 자동/수동 이미지 최적화를 위한 고급 자동 초점 메커니즘 (auto-focus mechanism), 패턴 명암과 선명도를 향상시키는 고급 조명 기술, 매우 정확한 결함 식별을 제공하는 고유 한 결함 감지 알고리즘 모음 (suite) 이 포함되어 있습니다. 또한 다양한 검사, 유효성 검증, 분석 기능 등을 통해 신속하고 간편한 결함 모니터링, 성능 분석 (performance analysis) 기능을 제공합니다. TENCOR 2133 Mask & Wafer Inspection Model은 논리 및 메모리 제품과 같은 복잡한 결함 구조에서 사용하도록 최적화되었습니다. 장비는 0.5 ~ 5 미크론의 심각한 결함을 정확하게 감지 할 수 있으며, 서브 미크론 구조를 감지 할 수도 있습니다. 또한, 시스템은 상세한 조사 및 결함 진단을 가능하게 하는 통합 결함 분석 (Integrated Defect Analysis) 패키지를 제공합니다. 이 장치는 또한 결함 결과를 완전히 추적하여 결함 가시성 (Defect visibility) 및 프로세스 제어 (Process Control) 를 향상시킬 수 있습니다. 2133 Mask & Wafer Inspection Machine은 자동 이미지 생성, 결함 데이터 로깅, 사용자 친화적 인 소프트웨어, 직관적인 보고서, 사용자 프로그래밍 가능 기능 등 다양한 기능을 제공합니다. 또한, 이 도구는 통합 교정 자산 및 향상된 결함 모니터링을 위한 향상된 3D 기능을 제공합니다. 전반적으로 KLA/TENCOR 2133 Mask & Wafer Inspection Model은 사진 마스크 및 반도체 웨이퍼의 결함 감지 및 식별을 위해 설계된 견고하고 정확하고 자동화된 검사 장비입니다. 고급 옵틱 (Optic), 결함 감지 알고리즘 (Defect Detection Algorithm), 정교한 분석 기능과 같은 기능을 갖춘 이 시스템은 전자 제품의 품질과 신뢰성을 보장하는 이상적인 솔루션을 제공합니다.