판매용 중고 KLA / TENCOR 2132 #9389837

KLA/TENCOR 2132는 프로세스 제어 및 수율 관리를 위해 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 마스크, 웨이퍼 (wafer), 포토 마스크 (photomask) 크기의 결함을 감지하고 측정할 수 있는 완전 자동화된 고급 이미징 시스템입니다. 이 장치는 높은 처리량 광학 설계, 정확한 스캐닝 (scanning) 및 자동 자동 초점 (autofocus) 기능에 의존하여 초당 평균 1 ~ 2 개의 샘플을 통해 선명하고 균일한 이미지를 얻을 수 있습니다. 하드웨어에는 다중 스펙트럼 LED 조명과 글로벌 셔터 CMOS 센서가 장착 된 카메라가 포함됩니다. 기계 광학은 고해상도 이미징 (high-resolution imaging) 과 넓은 영역 감지 (sensing) 를 페어링하여 잠재적 결함을 신속하게 샘플링하고 감지 할 수 있습니다. 모션 제어 (Motion control) 및 정밀한 센서는 전체 검사 주기 동안 샘플 이동이 최적화되어 일관되고 정확한 이미지 캡처가 됩니다. 이 도구는 TrueSpectrum 기능 기반 알고리즘을 사용하여 정확한 이미지 분석을 제공합니다. 특별히 설계된 알고리즘은 최소한의 잘못된 경보로 정확한 결함 감지를 가능하게하며, 속도와 정확성을 제공합니다. 이 알고리즘은 피쳐 치수 및 기하학적 특성을 측정할 수 있으며, 실시간 결함 크기 조정 및 분류 기능을 사용할 수 있습니다. KLA 2132 는 사용자 친화적 인터페이스로 설계되어 손쉬운 설치/변경, 간편한 데이터 수집, 분석, 보고 기능을 제공합니다. 이 자산은 또한 직관적인 보고 기능 (Reporting 기능) 을 제공하여 다양한 Report 형식을 생성할 수 있습니다. 포스트 프로세싱 이미지 분석 및 결함 크기는 즉석 조정을 위해 완전히 자동화됩니다. TENCOR 2132는 단순한 마스크 및 웨이퍼 검사 모델 이상입니다. 또한 LCD 및 OEL 품목의 품질 제어, 반도체 제조 프로세스, 리소그래피 노출의 품질 보증, 포토 마스크 및 레틱 패턴 검토, CCD의 결함 감지 등 다양한 생산 및 엔지니어링 응용 분야에도 사용할 수 있습니다. 옵션으로 제공되는 "시스템 통합 (Systems Integration)" 인터페이스를 통해 이 장비는 사용자의 기존 프로덕션 또는 엔지니어링 시스템과 통합하여 프로세스 흐름 제어, 향상된 컴포넌트 처리, 최적화된 수율 등을 보다 효과적으로 제어할 수 있습니다.