판매용 중고 KLA / TENCOR 2132 #9181746

KLA/TENCOR 2132 (KLA/TENCOR 2132) 는 광학 인식 및 이미지 분석을 통해 반도체 마스크와 웨이퍼 패턴 결함을 빠르고 정확하게 검사하도록 설계된 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 선 너비, 패턴, 조합의 부정확성에서 입자, 잔류 물, 긁힘 등의 이물질의 존재에 이르기까지 다양한 유형의 패턴 결함을 감지 할 수 있습니다. 이 시스템은 KLA에서 개발 한 고급 조명 장치 및 이미지 인식 기술을 사용합니다. 조명기 (Lightumination Machine) 는 이미지 캡처에 대해 저준위 (Low-Level) 및 고강도 (High-Intensity) 광원을 조합하고, 기판에 전력변이가 있음에도 불구하고 자동 초점 메커니즘이 선명한 이미지를 완벽하게 캡처할 수있는 추가 조명원과 함께 사용합니다. 이미지 분석 및 식별 소프트웨어도 매우 정교합니다. 에지 검출 (edge detection), 강도 측정 (intensity measurements), 필터 연산 (filter operation) 과 같은 알고리즘과 분석 기술의 조합은 높은 정확도로 결함을 식별하는 데 사용됩니다. 이 도구는 전체 웨이퍼 또는 마스크 맵에서 단일 픽셀 해상도로의 결함을 식별할 수 있습니다. 또한, 패턴화된 영역의 약간의 변화도 정확하게 감지할 수 있습니다. 이 소프트웨어에는 검사 결과를 시각화, 분석, 보고하는 도구 모음도 포함되어 있습니다. 이를 통해 사용자는 연구 결과를 반도체 제조 공정의 다른 구성원들과 빠르고, 쉽게 공유 할 수 있습니다. 또한 이 에셋에는 사용자 요구 사항에 따라 사용자 정의할 수 있는 다양한 고급 (advanced) 매개변수가 포함되어 있습니다. KLA 2132는 신뢰성이 뛰어나고 다양한 마스크 및 웨이퍼 검사 모델입니다. 즉, 수작업 프로세스의 필요성을 없애면서 정확하고 안정적인 결과를 얻을 수 있습니다. 강력한 시각화 (Visualization) 및 보고 (Reporting) 기능과 결합된 고급 감지 및 분석 기능을 통해 반도체 제조업체가 자사 제품의 패턴화 (Patterning) 결함을 파악하고 제거하고자 하는 이상적인 솔루션이 됩니다.