판매용 중고 KLA / TENCOR 2132 #293818647

KLA / TENCOR 2132
ID: 293818647
빈티지: 1995
Wafer inspection system 1995 vintage.
KLA/TENCOR 2132는 반도체 제작 산업을 위해 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 포괄적인 결함 검사 기능을 제공하며, 이를 통해 고객은 심각한 결함 유형을 파악하고 분류할 수 있습니다. 이 장치는 다양한 광학, 전기, 이미징 기술을 결합하여 시간당 최대 1,000 와퍼 (wafer) 의 속도로 고해상도 이미징 및 자동 결함 분류를 제공합니다. KLA 2132는 도량형 열과 검사 열의 두 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 도량형 열에는 고급 광선 감지 기술이 포함되어 있으며, 기능을 감지하고 2nm까지 측정 할 수 있습니다. 이렇게 하면 시스템이 나노 배율까지 프로세스별 (process-specific) 기능을 정확하게 측정하고 모니터링할 수 있습니다. 검사 열은 섬, 선, 비아의 고해상도 이미지를 캡처하도록 설계되었습니다. 그런 다음 인라인 (in-line) 알고리즘에 의해 처리되어 원인 및 효과 결함을 자동으로 식별하고 입자, 피쳐, 선 결함 등 다양한 범주로 분류합니다. 이 도구는 또한 검사 시간을 줄이기 위해 설계된 결함 인식 (Defect Recognition) 및 분류 기능을 포함합니다. 고급 패턴 일치 및 피쳐 인식 알고리즘을 통해 텐코 2132 (TENCOR 2132) 는 원인 및 효과 결함을 식별할 수 있으며, 모든 유형의 결함에서 피쳐 이상을 인식 할 수 있습니다. 또한, 공정 화학 물질 및 온도 조절 설정은 자산이 실행되는 동안 원격으로 모니터링 할 수 있습니다. 2132 는 여러 가지 기능을 제공하므로, 사용자가 특정 요구 사항에 맞게 검사를 사용자 정의할 수 있습니다. 이 모델에는 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 가 포함되어 있으며, 사용자는 사용자 특정 응용 프로그램에 대한 검사 기준을 조정할 수 있는 설정과 매개변수를 빠르게 선택할 수 있습니다. 또한, 이 장비는 빈번한 설정 (setting) 을 저장하고 쉽게 리콜할 수 있으며, 이를 통해 사용자는 신속하게 결과를 복제할 수 있습니다. 이 시스템에는 단일 '추적/추적 (track-and-trace)' 보고서에서 결함 데이터를 보고 분석할 수 있는 통합 결함 추적 장치도 포함되어 있습니다. 시스템의 전반적인 성능은 고급 데이터 관리 기능으로 향상되었습니다. 여기에는 포괄적인 데이터 저장 (data storage) 및 검색 (retrieval) 기능과 여러 소스 및 웨이퍼 세대의 결함 데이터를 완벽하게 통합하는 기능이 포함됩니다. KLA/TENCOR 2132 툴에 의해 생성된 모든 데이터는 추가 분석 및 아카이빙을 위해 특수 데이터베이스에 저장됩니다. 요약하면, KLA 2132는 반도체 제작 산업을 위해 설계된 고급적이고 유능한 마스크 및 웨이퍼 검사 자산입니다. 이 모델은 시간당 1,000 웨이퍼의 속도로 빠르고, 고해상도 이미징, 자동 결함 분류를 제공할 수 있습니다. 즉, 직관적인 GUI (그래픽 사용자 인터페이스), 고급 데이터 관리 기능, 사용자 지정 가능한 검사 기준을 제공하여, 고객의 검사를 특정 요구에 맞게 조정할 수 있습니다.
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