판매용 중고 KLA / TENCOR 2132 #293815450

KLA/TENCOR 2132는 반도체 생산의 결함을 찾고 수율을 향상시키는 데 사용되는 신뢰할 수있는 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 제품은 고급 광학, 이미지 처리, 고급 레이저 측정 기술 (Advanced Laser Measurement Technology) 의 조합을 사용하여 전체 마스크와 웨이퍼 표면을 나노미터 척도로 검사합니다. KLA 2132는 KLA SmartScribe 비선형 레이저 간섭계를 기반으로합니다. 이 시스템은 웨이퍼 (wafer) 또는 마스크 (mask) 에 결함 있는 피쳐와 결함이 없는 피쳐의 나노미터 배율 측정을 수집하고 정확하게 보고하는 데 사용될 수 있습니다. 전체 서피스를 하나의 단일 가공 패스 (single pass) 로 스캔하여 전체 서피스의 명확한 이미지를 생성할 수 있습니다. 텐코 2132 (TENCOR 2132) 는 나노미터 수준의 레이저 조명과 동적 이미지 처리를 결합한 특허 기술을 사용하여 결함 및 기타 기능을 정확하게 측정 할 수있는 신호 대 잡음비 (signal-to-noise ratio) 를 개선했습니다. 고급 옵틱 외에도 2132 년에는 결함 감지를 위해 분할 된 대비 패턴이 있습니다. 이 기능은 픽셀 감지 (pixel detection) 를 사용하여 대비가 가장 큰 영역을 분리하여 더 정확한 결함 식별을 허용합니다. 이것은 더 표준적인 단일 이미지 패턴 인식 시스템 (single-image pattern recognition system) 과 대조되며, 이는 결함을 덜 정확하게 감지 할 수 있습니다. 이 장치에는 스티칭 및 자동 초점을위한 고급 고속 알고리즘이 장착되어 있습니다. 이렇게 하면 자동 초점 (autofocus) 이 빨라지고 전체 검사 프로세스가 빨라지며, 더 큰 마스크를 스캔할 때 광학에 초점을 맞출 필요가 없어집니다. KLA/TENCOR 2132 는 다양한 기능을 제공하여 운영 환경에 맞게 사용자 정의할 수 있습니다. 다른 마스크 및 기판 모양에 맞게 사용자 조절 가능한 광학 (optic) 을 최적화 할 수 있으며, 시스템의 소프트웨어는 다양한 운영 타사 모니터링 시스템과 호환됩니다. 전반적으로, KLA 2132는 사용하기 쉽고 안정적인 마스크 및 웨이퍼 검사 도구로서, 수율을 극대화하고 생산 비용을 절감합니다. 첨단 광학, 이미지 처리, 동적 레이저 측정 (dynamic laser measurement) 조합은 재포커스의 필요성을 최소화하고 나노미터 측정에 대한 최고의 정확도를 제공합니다. 결함 감지 (defect detection) 및 고속 자동 초점 (high-speed autofocus) 알고리즘을위한 분할 대비 패턴은 유용성을 더욱 향상시켜 반도체 생산 요구에 귀중한 자산이되었습니다.