판매용 중고 KLA / TENCOR 2132 #293800562

KLA/TENCOR 2132는 반도체 장치 비휘발성 메모리 제조를위한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 스크랩을 줄이고 수율을 늘리도록 설계되었습니다. 주요 기능에는 광범위한 장치 크기의 결함을 감지하는 기능 (최대 다이 크기: 645mm2) 이 포함됩니다. 또한 하위 픽셀 결함 (하위 픽셀 결함) 에서 전체 다이 결함 (full-die 결함) 에 이르기까지 다양한 결함을 감지 할 수있는 고급 결함 감지 알고리즘이 있습니다. KLA 2132에는 광학 및 전자 빔 기술을 모두 사용하는 웨이퍼 레벨 패키지 및 기타 구조 (예: 구리 기둥 범프 및 솔더 범프) 를위한 최첨단 마스크 검사 기능이 포함되어 있습니다. 또한 자동 측정 및 결함 감지 기능을 통해 정확성과 반복 가능성을 보장합니다 (영문). 또한, 마스크 복제본의 3D 데이터를 처리하는 고급 알고리즘 엔진 (Advanced Algorithm Engine) 이 있으므로 빠른 속도로 전체 스캔이 가능합니다. 결과는 빠르고 정확도가 높습니다. TENCOR 2132는 또한 "다중 시스템" 작업을 제공하여 하나의 장치로 동시 웨이퍼 및 마스크 작업을 허용합니다. 따라서 작업 흐름을 효율적으로 수행하고, 여러 작업을 수행할 때 다운타임을 최대 2/3 까지 줄일 수 있습니다. 기계에는 여러 마스크 정렬기가 포함되어 있으므로, 다른 마스크 유형을 동시에 검사할 수 있습니다. 안정성과 정확성을 보장하기 위해, 이 도구에는 고급 석판화 (lithography) 원칙에 따라 개발 된 통합 비전 처리 엔진이 포함되어 있습니다. 이 비전 도구 집합을 사용하면 빠르고 정확한 결함을 감지 할 수 있습니다. 또한, 자산에는 맹인 (blind) 및 매장 (buried) 기능과 같이 일반적으로 검사하기 어려운 영역에서 결함 감지를 개선 할 수있는 고급 스캐닝 기술이 포함되어 있습니다. 손쉬운 설치 및 운영을 위해, 2132에는 빠르고 쉽게 설치할 수 있는 직관적인 GUI가 포함되어 있습니다. 웨이퍼 크기, 확대, 이미지 크기, 검사 영역을 빠르게 조정하는 전용 기능이 있습니다. 이 인터페이스는 또한 특정 유형의 작업에 패턴을 매핑할 수 있게 해 주며, 빠르고 효율적인 작업 (operation) 을 가능하게 합니다. 전반적으로 KLA/TENCOR 2132는 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 모델로, 스크랩을 크게 줄이고 수율을 향상시킬 수 있습니다. 첨단 비전 처리 (Advanced Vision Processing) 기능을 통해 다양한 구조에서 다양한 결함을 감지할 수 있습니다. 또한 직관적인 설치 작업과 향상된 스캐닝 (scanning) 기술을 통해 정확성과 생산성을 향상시킬 수 있습니다. 이 장비는 비용 절감, 수익률 증대 등을 추구하는 장치 제조업체에게 탁월한 선택입니다.