판매용 중고 KLA / TENCOR 2132 #293798142

KLA/TENCOR 2132 Mask & Wafer Inspection Equipment는 반도체 제작에 사용되는 완전 자동화 검사 솔루션입니다. 고해상도 디지털 이미징 시스템을 사용하여 포토마스크 (photomask) 와 웨이퍼 (wafer) 에서 지형 (togography) 이나 반사도 (reflectivity) 의 변형으로 정의되는 결함을 감지합니다. 에어 베어링 스테이지 (air bearing stage) 는 고급 브라이트 필드 (brightfield) 및 다크 필드 광학 시스템 (darkfield optical systems) 을 통해 샘플을 전송합니다. KLA 2132는 최대 12 인치의 포토 마스크 및 200mm ~ 450mm의 반도체 웨이퍼를 수용 할 수 있습니다. 저용량 생산 (Low-Volume Production) 또는 대용량 제조 (High-Volume Manufacturing) 를 위해 다양한 스테이지 구성을 사용할 수 있으며 검사 장치를 구성할 수 있습니다. 스캔각 (scan angle) 에서 노출 및 레이어 수 (exposure and layer) 에 이르는 정교한 회계 기능과 결합된 TENCOR 2132는 상세한 데이터 분석, 결함 추세 분석 및 기타 보고 기능을 제공합니다. 사용이 간편한 화면 사용자 인터페이스로, 다양한 분석 모드를 선택할 수 있습니다. 검사 제품군에는 웨이퍼 정렬 (wafer alignment) 및 이미지 분석 소프트웨어 (image analysis software) 도 포함되어 있으며, 이 제품군은 업계의 최신 호환 검사 요구 사항 및 컴퓨터 인터페이스와 완벽하게 호환됩니다. 2132 Mask & Wafer Inspection Machine (마스크 및 웨이퍼 검사 기계) 은 반도체 제조 시설의 추적 가능하고 신뢰할 수있는 환경에서 고급 시각적 검사 및 슬라이드 분석 기능을 활용하여 다양한 크기와 두께의 기판에 이상적인 도구입니다. 브라이트 필드 (brightfield) 와 다크 필드 (darkfield) 시스템을 통해 지형 기능과 광학 대비 결함을 구분할 수 있습니다. 통합 소프트웨어 제품군은 효율적인 데이터 분석, 결함 추적 및 보고 기능을 제공합니다. 그리고 공기 베어링 단계는 더 많은 샘플 정확도와 작동을 허용합니다. 이러한 기능을 함께 사용하면 KLA/TENCOR 2132 Mask & Wafer Inspection Asset을 빠르고 효율적인 반도체 제조를 위한 최첨단 도구로 만들 수 있습니다.