판매용 중고 KLA / TENCOR 2131E #9384645

KLA/TENCOR 2131E는 반도체 산업을 위해 설계된 고성능, 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. KLA의 최신 멀티 채널, 이미지 기반 검사 시스템입니다. 이 시스템은 고급 (Advanced) 연산 도구와 기술을 활용하여 종합적이고 체계적인 접근 방식을 통해 웨이퍼 (Wafer), 마스크 (Mask) 및 기타 복합 부품을 검사합니다. KLA 2131E는 고급 검사 알고리즘과 이미징 도구 모음으로 구성된 TENCOR TrueImage Technology 플랫폼을 기반으로합니다. 이 장치는 검사 대상 항목의 표면에서 오염, 결함, 불완전, 변형을 감지할 수 있습니다. 또한, 기계는 크기, 각도, 공차 및 기타 중요한 매개변수를 측정 할 수 있습니다. 또한 고급 검사 툴은 특허를 획득한 MaxBright Sensor Technology를 사용하여 이전 모델에 비해 뛰어난 화질을 제공합니다. 이 기술은 검사되는 개체 표면에 대한 세부 (details) 가 누락되지 않도록 합니다. 이 에셋은 프레임 당 최대 1,200 만 픽셀을 제공하는 고정밀, 멀티 메가 픽셀 CMOS 이미징 센서를 사용합니다. TENCOR 2131 E는 또한 효율적이고 포괄적인 결함 평가를 위해 특별히 설계된 광범위한 검사 프로그램을 제공합니다. 이 최신 모델은 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 사용자가 가장 적합한 검사 기준 및 매개변수를 쉽게 선택할 수 있습니다. 2131 E 는 시간당 최대 14000 개의 웨이퍼를 처리할 수 있는 빠르고 안정적인 성능을 제공합니다. 이 장비는 동급 최고 수준의 처리량을 제공하며, 운영 시 활용도를 높이도록 설계되었습니다. 또한 데이터 수집/분석에 소요되는 시간을 단축하고 거의 무제한적인 기능을 제공합니다. 또한 KLA/TENCOR 2131 E에는 고급 장애 진단 시스템이 장착되어 있습니다. 따라서 잠재적인 문제를 신속하게 파악하고 해결하여 다운타임을 줄이고, 효율성을 향상시킬 수 있습니다. 또한 실시간 웨이퍼 추적 (wafer tracking) 및 분석 (analysis) 기능을 통해 설치 시간을 크게 단축하고 운영 속도를 높일 수 있습니다. 전반적으로, 2131E는 강력하고, 정확하며, 효율적인 마스크 및 웨이퍼 검사 머신으로, 최상의 품질의 결과를 보장합니다. 첨단 기능을 통해 시장에서 가장 앞선 시스템 (advanced system) 중 하나로, 많은 기업과 업계에 이상적인 솔루션으로 자리잡았습니다.