판매용 중고 KLA / TENCOR 2131 #9158749

KLA/TENCOR 2131 Mask & Wafer Inspection 장비는 반도체 제조에서 마스크 및 웨이퍼 검사를 위해 높은 정확도, 고해상도, 반복 가능한 결과를 제공하도록 설계되었습니다. 이 자동 검사 시스템은 시간당 최대 70,000 개의 마스크와 웨이퍼를 검토 할 수 있으며, 5 인치 FOV 내장 레이저 광학 및 픽셀 당 1 미크론 해상도의 CCD 기반 이미징 장치를 사용합니다. KLA 2131 Mask & Wafer Inspection 머신에는 강력한 이미지 처리 알고리즘이 장착되어 있어 0.2 미크론 (미크론) 정도의 결함을 빠르고 정확하게 감지하고 식별할 수 있습니다. 또한 이 도구에는 실시간 정렬, 자동 초점 (auto focus) 과 같은 품질을 보장하는 여러 기능이 내장되어 있습니다. 또한, 이 자산에는 결함, 오염, 장비 구성 요소에 대한 마스크와 웨이퍼를 검토할 수 있는 고성능 비전 (vision) 기반 결함 검사 모델이 장착되어 있습니다. TENCOR 2131 Mask & Wafer Inspection 시스템은 여러 플랫폼, 품질 관리 도구 및 다양한 유형의 장비를 쉽게 통합 할 수 있도록 설계되었습니다. 이 장치는 다양한 통합 결함 검토/장애 특성 도구 (예: 결함 검토 컴퓨터, 품질 관리 도구, 전기 테스트 시스템) 와 호환됩니다. 2131 머신은 또한 여러 마스크 (mask) 와 웨이퍼 (wafer) 를 동시에 지원하므로 대형 웨이퍼 및 마스크 세트를 더 빨리 검토 할 수 있습니다. 또한, 이 툴은 데이터 관리 자산 (data management asset) 을 통해 결함 데이터를 빠르고 정확하게 검토하고 해결하여 검사 프로세스의 효율성을 높일 수 있습니다. 이 모델은 또한 프로세스 모니터 (Process Monitor) 와 같은 여러 가지 모니터링 및 보고 기능을 제공합니다. 이 기능은 전체 마스크 및 웨이퍼 검사 프로세스를 실시간으로 통합된 뷰를 제공합니다. 또한 HLC (High Level Control) 소프트웨어도 포함되어 있어 다양한 제조 요구 사항을 충족하고 최고 수준의 결함 검토 (Defect Review) 정확성을 제공할 수 있습니다. 전반적으로, KLA/TENCOR 2131 시스템은 반복 가능한 결과를 통해 마스크와 웨이퍼에 대해 빠르고 정확한 검사를 제공하며, 다양한 결함 검토 (Defect Review) 및 결함 특성 도구와 통합할 수 있습니다. 이 장치에는 강력한 이미지 처리 알고리즘 (image processing algorithm), 데이터 관리 시스템 (data management machine) 및 다양한 모니터링/보고 기능도 포함되어 있어 결함이 매우 높습니다.