판매용 중고 KLA / TENCOR 2131 #293820148

KLA/TENCOR 2131 Mask and Wafer Inspection 장비는 고급 패턴 인식 기술을 사용하여 웨이퍼 결함을 감지하고 분석하는 웨이퍼 결함 감지 플랫폼입니다. 레티클 (Reticle) 과 웨이퍼 (Wafer) 제조 모두를 위한 포괄적인 플랫폼으로, 일반 (Regular) 과 초고해상도 (Ultra High Resolution) 모두에서 가장 작은 영역까지 빠르게 결함을 식별 할 수 있습니다. 이 시스템은 정확하고, 빠르고, 효율적인 결함 감지를 위해 다양한 고급 기능을 자랑합니다. 이 장치에는 최대한의 정밀도를 위한 디지털 이미징 머신이 장착된 고해상도 광학 현미경 (high-resolution optical microscope), 대용량 영역 범위와 높은 처리량을 위한 고속 스캐닝 기능, 신속한 데이터 처리 및 분석을 위한 전용 산업용 컴퓨터가 포함되어 있습니다. 이 도구는 또한 허위 결함 및 허위 네거티브 (false negative) 를 감지하기 위해 고급 분광 분석을 제공하며, 다양한 특정 결함 분석 알고리즘을 실행하도록 구성 할 수 있습니다. 자산에는 종합적인 결함 분석 인터페이스 (Defect Analysis Interface) 가 포함되어 있어 결과를 자세히 검토하고 분석할 수 있습니다. 여기에는 결함을 식별하고 분류하는 데 사용할 수 있는 다이어그램, 차트, 이미지가 포함됩니다. 프로세스 간소화를 위해 자동화된 결함 분석, 스캐닝 임계값 조정 및 false 결함 분석도 제공됩니다. 전체적으로 KLA 2131 Mask 및 Wafer Inspection 모델은 정확도, 속도 및 효율성의 탁월한 조합을 제공하도록 설계되었습니다. 고급 스캐닝 기술 (Scanning Technologies) 과 상세한 결함 분석 기능 (Defect Analysis Features) 이 결합되어 있어 집적 회로의 프런트엔드 (Front-End) 및 백엔드 (Back-End) 제조 등 다양한 애플리케이션에 적합합니다. 기존 시스템으로의 안정적인 성능과 손쉬운 통합을 통해 웨이퍼 (Wafer) 결함 탐지를 위한 매력적인 선택이 가능해집니다.