판매용 중고 KLA / TENCOR 2131 #168852

KLA/TENCOR 2131 마스크 및 웨이퍼 검사 장비는 웨이퍼 마스크 검사, 도량형 및 결함 검토를위한 포괄적 인 검사 시스템입니다. 이 장치는 손쉽게 사용할 수 있도록 설계되었으며, 자동 이미지 수집, 이미지 검사, 결함 검토 (Defect Review) 기능을 제공하여 높은 수율과 프로세스 제어를 보장합니다. KLA 2131 은 고해상도 CCD 카메라와 조명 모듈로, 까다로운 마스킹 기술에서도 높은 정확도로 결함 있는 이미지를 캡처할 수 있도록 설계되었습니다. 이를 통해 사용자는 핀 홀 (Pinhole) 과 표면 오염 물질 (Surface Contaminant) 을 포함하여 0.02 미크론 정도의 전체 결함을 감지하고 특성화할 수 있습니다. 이 기계는 또한 신속한 장치 정렬, 패턴 일치 (pattern matching) 및 결함 식별이 가능한 자동 제어 도구를 갖추고 있습니다. 이를 통해 사용자는 결함 있는 마스크를 쉽게 문제 해결하고 분석할 수 있으며, 프로세스 제어와 고수율을 보장할 수 있습니다. TENCOR 2131에는 고정밀 웨이퍼 측정을위한 고급 도량형 도구도 포함되어 있습니다. 이 도량형 도구에는 정확하고 빠른 속도의 광 정렬 자산 (optical alignment asset) 이 포함되어 있어 높은 정확성과 재현성을 보장합니다. 이 모델에는 또한 두께, 서피스 온도, 기타 특성 등 결함 이미지의 매개변수를 정확하게 측정하는 다양한 고급 측정 (advanced measurement) 및 특성 알고리즘 (characterization algorithm) 이 포함되어 있습니다. 또한 2131 은 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 다양한 기능을 신속하게 탐색하고 이미지를 검토할 수 있습니다. 또한, 마스크 및 웨이퍼 검사 장비를 기존 시스템에 쉽게 통합하여 고속 데이터 교환 및 효율적인 기계간 통신 (machine-to-machine communication) 기능을 제공합니다. 요약하면, KLA/TENCOR 2131 Mask and Wafer Inspection System은 빠르고 정확한 마스킹 검사, 도량형 및 결함 검토를 위한 종합적인 도구 모음을 제공합니다. 자동 제어 장치 (Automated Control Unit) 및 고해상도 CCD 카메라를 사용하여 사용자는 0.02 미크론까지 결함을 정확하게 감지하고 특성화하여 높은 수율과 공정 제어를 보장합니다. 또한 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 와 기존 시스템에 쉽게 통합할 수 있으므로 매우 효율적이고 생산적인 툴이 될 수 있습니다.