판매용 중고 KLA / ICOS WI-2000 #188229

KLA/ICOS WI-2000은 고급, 다용도 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 빠른 이미징, 신뢰할 수 있는 프로덕션, 종합적인 테스트 범위를 제공합니다. KLA WI-2000 은 기존 마스크/웨이퍼 검사 시스템과 비교해 볼 때 혁신적인 기술을 활용해 처리량과 정확도를 극대화할 수 있습니다. ICOS WI-2000은 최신 마스크 및 웨이퍼 이미징 (wafer imaging) 기술을 사용하여 최대 테스트 해상도를 제공하므로 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 의 개별 기능을 하위 미크론 수준으로 정확하게 검사할 수 있습니다. 또한 WI-2000은 정교한 이미징 시스템으로 매우 고해상도 마스크 및 웨이퍼를 검사할 수 있습니다. 다중 이미징 채널과 광원을 통해 여러 레이어를 정확하게 이미지화할 수 있으므로 기존 마스크 레이아웃 (mask layout) 및 웨이퍼 테스트 시스템 (wafer test system) 과 원활하게 통합할 수 있습니다. 또한 고급 실시간 결함 마스크 검토 (Advanced Real-Time Defect Mask Review) 기능을 통해 사용자가 결함을 신속하게 파악하고 우선 순위를 지정할 수 있으므로 파악된 모든 문제에 대해 신속한 결정을 내릴 수 있습니다. 검토 프로세스를 용이하게 하기 위해 검사 머신은 직관적인 사용자 인터페이스 (UI) (User Interface, UI) 를 사용하여 복잡한 명령을 학습하지 않고도 이 도구를 사용하여 결함을 감지하고 검토할 수 있도록 합니다. KLA/ICOS WI-2000은 내장된 프로세스 흐름 시뮬레이션 (Process Flow Simulation) 및 트랙 맵 생성 용량 (Track Map Creation Capacity) 을 사용하여 제품이 고객에게 도달하기 전에 문제를 정확하게 식별할 수 있도록 운영 프로세스 분석을 추가로 지원합니다. 고급 이미징 (advanced imaging) 기술과 심층 분석 (in-depred analysis) 기능이 결합된 이 자산을 통해 운영 효율성이 향상되어 모든 제조 설비에 귀중한 자산이 됩니다. 또한, KLA WI-2000은 크리티컬 및 초미세 (ultra-fine) 기능을 검사하기 위해 분리되고 더 민감한 이미징 채널을 갖추고 있어 최고의 정확성을 보장합니다. 이 기능으로, 모델은 기존의 이미징 장비 (영상 장비) 가 간과할 수 있는 결함을 감지하고 보고할 수 있습니다. 또한 온보드 소프트웨어를 사용하면 프로세스 제어 (process control) 와 결함 추세 (defect trending) 모두에 사용할 크기, 모양, 밀도, 기타 등의 결함 특성을 분석하고 기록할 수 있습니다. ICOS WI-2000 (WI-2000) 은 최첨단 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 업계 최고 표준에서 이미징 및 분석 기능을 정확하게 제공할 수 있습니다. 고급 이미징 기술 및 생산 프로세스 (Production Process), 분석 (Analysis), 결함 검토 (Defect Review) 를 결합한 기능을 통해 생산량을 극대화하려는 모든 제조 시설에 매우 유용한 툴입니다.