판매용 중고 KLA / ICOS CI 8250 #9113513

KLA/ICOS CI 8250은 반도체 제조업체를 위해 설계된 자동화된 이미지 기반 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 또한 Wafer 및 Mask 품질을 모두 보장하는 포괄적인 솔루션을 제공합니다. 이 시스템은 레이저 간섭계 (laser interferometer) 를 기반으로 한 초점 이미징 기술과 패턴 결함의 서브 미크론 (sub-micron) 해상도를 생성하는 강력한 알고리즘을 갖추고 있습니다. 이 장치에는 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 검사 (mask inspection) 를 정확하고 효율적으로 만드는 데 도움이 되는 여러 구성 요소가 포함되어 있습니다. 최첨단 패턴 인식 소프트웨어, 정확한 정렬 및 초점 위치를위한 3 차원 동력 객관식 렌즈, 반사광의 반사도 측정을위한 레이저 간섭계, 이미지 데이터 캡처를위한 고해상도 CCD 카메라 등을 사용합니다.. KLA CI 8250은 고성능 및 지속적인 처리량에 최적화되어 있습니다. 빠른 속도와 정확도로 2 차원 이미지를 생성 할 수 있습니다. 이미지의 회전 (rotation) 과 확대 (magnization) 는 관심 있는 웨이퍼 피쳐와 일치하도록 조정할 수 있으며 결함을 구분할 수 있습니다. 기계는 두 가지 유형의 결함 (개방-회로 결함, 패턴 내 브레이크, 폐쇄-회로 결함) 을 식별하거나 패턴 요소 사이에 겹칠 수 있습니다. ICOS CI-8250은 입수된 이미지의 품질을 향상시키기 위해 명암비 개선, 선명 (sharpening), 에지 감지 (edge detection) 등 다양한 이미지 조작 도구를 제공합니다. 그런 다음, 향상된 이미지를 사용하여 결함을 보다 정확하게 식별하고 분석 할 수 있습니다. 허위 색상 매핑 (false color mapping), 수평 프로파일 플로팅 (horizontal profile plotting), 히스토그램 분석 (histogram analysis) 과 같은 다양한 분석 기술을 사용하면 결함의 특성을 정확하게 측정하고 보고 할 수 있습니다. 전반적으로 KLA CI-8250은 웨이퍼 (wafer) 및 마스크 (mask) 계층 모두에서 결함을 감지하고 분석하는 데 적합한 자동 검사 자산입니다. 고급 이미지 향상 기능 (Advanced Image Enhancement) 과 분석 기법 (Analysis Technique) 은 데이터 처리 후 (Post-Processing Data) 를 위한 효율적인 솔루션을 제공하며 제품 다운타임을 줄이고 운영 품질을 높일 수 있습니다.