판매용 중고 KLA / ICOS CI 8250 #9053897

KLA/ICOS CI 8250은 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 제조 과정에서 반도체 포토 마스크 (photomask) 와 웨이퍼 (wafer) 의 다양한 결함을 감지, 분석 및 분류하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 광학 검사 장치 (optical inspection unit), 웨이퍼 및 마스크 클리닝 기계 (wafer and mask cleaning machine) 및 결함 분류 도구로 구성됩니다. 고급 광학 검사 자산에는 3 개의 서로 다른 광학 헤드가 있으며, 각각 다른 마스크 및 웨이퍼 크기를 수용 할 수 있습니다. 각 헤드는 다양한 크기와 결함 유형 (예: 선 너비 또는 모양 변형, 외국 재료 포함, 안개, 공백, 뒤틀림 및 기타 표면 불규칙성) 을 감지 할 수 있습니다. 웨이퍼 (wafer) 및 마스크 클리닝 모델은 검사 전에 마스크와 웨이퍼를 철저히 청소하여 최대 정확도를 제공하도록 설계되었습니다. 이 장비 는 독자적 인 기술 과, 표면 에서 가장 작은 입자 들 까지도 제거 할 수 있는 "프로세스 '를 이용 한다. 마지막으로, 각 유형의 결함을 식별하도록 설계된 강력한 이미지 처리 알고리즘 (강력한 이미지 처리) 으로 구성된 결함 분류 시스템 (defect classification system) 을 사용합니다. 이를 통해 단위는 결함이 있음을 감지할 수 있을 뿐만 아니라, 추가 분석을 위해 각 유형의 결함을 정확하게 분류할 수 있습니다 (영문). 이 기계는 특정 결함의 심각도 (severity) 를 분류하여 제조 과정에서 최적의 시정 전략 (corrective strategy) 을 가능하게 할 수도 있습니다. 전체적으로, KLA CI 8250은 강력하고 정교한 마스크 및 웨이퍼 검사 도구로서, 반도체 제조 공정 전반에 걸쳐 높은 품질과 정확성을 보장합니다. 제조업체는 다양한 유형의 결함을 탐지, 정확하게 분류함으로써 잠재적인 문제를 빠르고 효과적으로 파악하고 해결할 수 있습니다 (영문). 이 자산은 제조 공정 (Manufacturing Process) 의 결함 보정과 관련된 시간, 재료, 인건비 (Labor Cost) 를 줄일 수 있으므로 모든 반도체 제조업체에 귀중한 도구입니다.