판매용 중고 J-MAR S2610-01-01 #9211242

J-MAR S2610-01-01은 반도체 산업에 사용되는 고정밀 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 고급 옵틱, 레이저, 자동 소프트웨어 기반 검사 기술을 활용하여 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer), 마스크 (mask), 상호 연결 (interconnect) 과 같은 다양한 고급 재료의 결함을 정확하게 측정하고 정확하게 감지합니다. 이 장치에는 1024x1024 해상도의 현미경 CCD 카메라를 포함한 다양한 센서가 장착되어 있습니다. 이 고해상도 카메라를 통해 연산자는 가장 작은 표면 결함을 나노미터 (nanometer) 척도까지 감지 할 수 있습니다. 또한, 매우 정밀한 측정을 위해 0.05 미크론 스팟 크기의 병렬 공백 레이저 머신이 포함되어 있습니다. 이 도구는 또한 LBS (Laser Beam Stripping) 라고하는 독점적 인 광학 기술을 특징으로하며, 이는 0.1 미크론만큼 얇은 재료의 가장 얇은 층을 감지 할 수 있습니다. 자산은 WIPCS (Wespoke Control Model) 라는 맞춤형 소프트웨어 패키지로 구동됩니다. 이 소프트웨어는 패턴 일치 (pattern matching), 3D 형태 분석, 가장 적합한 분석 등 강력하고 정확한 결함 감지 기능을 제공합니다. 이를 통해 전자 사진 (E-beam) 과 고급 리소그래피 (advanced lithography) 와 같은 가장 정교한 프로세스조차도 정확하고 효과적으로 모니터링 할 수 있습니다. S2610-01-01 장비는 고급 옵틱 (optic) 및 감지 (sensing) 기술과 결합하여 고급 자동 프로세스 제어 기능도 갖추고 있습니다. 이러한 기능은 모든 프로세스가 안정적이고 효율적으로 작동되도록 합니다. 이러한 기능의 제어 자동화 및 통합을 통해 운영 비용 절감, 프로세스 수익률 향상 등의 효과를 얻을 수 있습니다 (영문). 마지막으로, 이 시스템에는 결함 모니터링, 기능 측정 (feature measurements) 및 기타 중요한 프로세스 변수에 대한 자세한 평가를 위해 데이터 분석 소프트웨어 (data analysis software) 가 함께 제공됩니다. 이 분석은 최고 수준의 제품 출력을 보장하며 효율성을 극대화합니다. 요약하면, J-MAR S2610-01-01은 고급 광학, 레이저 및 자동 소프트웨어 기반 검사 기술을 결합하여 나노 미터까지 결함을 감지하고 정확하게 측정하는 하이테크 마스크 및 웨이퍼 검사 장치입니다. 또한 최적의 제품 출력을 위해 프로세스 제어 기능과 데이터 분석 소프트웨어 (data analysis software) 가 장착되어 있습니다. 이 기계는 E-beam 및 고급 리소그래피와 같은 고급 프로세스에 이상적입니다.