판매용 중고 HERMES MICROVISION / HMI eP3 #9285021

HERMES MICROVISION/HMI eP3는 가장 까다로운 반도체 생산 요구 사항을 충족시키는 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템입니다. 모든 유형의 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 생산에 대해 가장 정밀한 측정 및 도량형 테스트를 제공 할 수 있습니다. HMI eP3는 광학 웨이퍼 검토, 결함 분석, 리소그래피 검사, 수율 관리 및 패턴 웨이퍼에 대한 광학 검토와 같은 응용 분야에 이상적입니다. 자동화된 "이미지 획득 '과" 처리' 기술로 예기치 못한 오류를 감지하고 정확하게 처리할 수 있다. 에르메스 마이크로비전 eP3 (HERMES MICROVISION eP3) 는 지능형 이미징 기능과 강력한 조명시스템을 갖추고 있으며, 다양한 소프트웨어 툴을 통해 디지털 이미지 캡처, 측정 범위와 정확도를 조정할 수 있습니다. 이를 통해 마스크 및 웨이퍼 결함이 정확하게 평가되고 추가 검사를 위해 플래깅됩니다. EP3은 이미지 분석 및 결함 검토에 대한 포괄적인 접근 방식을 제공하도록 설계된 HERMES MicroImage 소프트웨어 (HERMES MicroImage 소프트웨어) 제품군에서 지원됩니다. 이 소프트웨어 제품군은 세로/가로/대각선으로 뒤집힌 이미지, 대비 기능 향상, 확대된 이미지, 확장된 뷰 등 다양한 미리 정의된 이미지 뷰를 제공하여 검사 결과를 자세히 분석합니다. 또한, HERMES MICROVISION/HMI eP3는 뛰어난 옵틱과 이미지 해상도에 더 높은 선명도를 제공하여 샘플 광도의 균일성을 기반으로 노출 시간을 조정할 수 있습니다. 이렇게 하면 노출 제한 범위가 최적화되고 이미지 캡처의 정확도가 향상됩니다. 또한, HMI eP3에는 직관적인 사용자 친화적 인터페이스 (user-friendly interface) 가 제공되어 운영자에게 필요한 모든 기기에 쉽게 액세스 및 설정을 변경할 수 있습니다. 사용자 레이블이 지정된 기능과 바로 가기를 사용하면 설치 및 실행 시 운영 시간이 절약됩니다. 요약하자면, 헤르메스 마이크로비전 eP3 (HERMES MICROVISION eP3) 는 다양한 기능과 기능을 갖춘 포괄적이고 신뢰할 수 있는 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템으로, 반도체 생산에 이상적입니다. 자동화된 이미지 획득 및 분석을 통해 정확하고 안정적인 결과를 얻을 수 있습니다. 또한 사용자 친화적인 인터페이스를 통해 빠르고 간단한 설치 프로세스를 보장할 수 있습니다.