판매용 중고 HERMES MICROVISION / HMI eP3 XP #9293877

HERMES MICROVISION/HMI eP3 XP는 복잡한 고밀도 패턴 설계에서 미세한 결함 및 기능을 식별하기위한 높은 수준의 정확성과 정밀도를 제공하는 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 고급 이미지 처리 (advanced image processing) 와 혁신적인 알고리즘 (innovative algorithm) 을 조합하여 마스크나 웨이퍼의 양면을 빠르고 철저하게 검사합니다. HMI eP3 XP에는 강력한 레이저 스캔 기술이 포함되어 있어 고해상도 스테레오 데이터를 빠르고 정확하게 수집할 수 있습니다. 이 장치는 2 카메라, 비접촉식 이미징 머신을 사용하여 마스크 또는 웨이퍼의 전체 필드 스테레오 이미지를 제공합니다. 독점 패턴 인식 소프트웨어는 자동 결함 검사 및 3D 프로파일 기능 감지를 지원합니다. HERMES MICROVISION eP3 XP에서 사용하는 독점 비전 플랫폼은 정교한 3D (3D) 분석 이미징 도구를 사용하여 가장 작은 결함 또는 기능조차도 빠르게 식별하고 분리합니다. 에셋은 결함 감지 및 와이드 필드 이미징을 나노 미터 정확도로 낮추도록 설계되었습니다. 이 모델에는 사용하기 쉬운 GUI (Graphical User Interface) 를 포함하여 직관적이고 사용자 친화적 인 기능이 많이 포함되어 있습니다. 따라서 다양한 도구를 빠르고 효율적으로 액세스할 수 있습니다. 이 장비는 또한 다중 계층 (multi-layering) 기능을 제공하여 운영자가 개별 피쳐 유형에 대한 검사를 구성할 수 있습니다. HMI eP2 XP는 고급 제조 마스크, 다이 (die), 집적 회로 (IC) 웨이퍼의 검사, 결함 감지 등 다양한 어플리케이션에서 사용하기에 적합한 견고한 시스템입니다. 마스크 및 웨이퍼 검사 응용 프로그램 (예: 검증된 결함 감지, 3D 표면 프로파일 링 기능) 에 적합한 다양한 기능을 제공합니다. 전반적으로, eP3 XP 마스크 및 웨이퍼 검사 장치 (wafer inspection unit) 는 결함 및 기능에 대한 마스크와 웨이퍼를 검사하는 최고의 기능을 제공하는, 사용자에게 친숙한 고급 기계입니다. 이 툴은 최신 기술을 활용하여 '미세한 결함' 과 '기능' 을 신속하고 정확하게 감지하여 최고의 제품/프로세스 품질을 보장합니다. 직관적인 GUI 및 다중 계층 (multi-layering) 기능은 자산의 사용성과 유틸리티를 더욱 향상시켜 모든 마스크 및 웨이퍼 검사 (wafer inspection) 어플리케이션에 적합한 옵션을 제공합니다.