판매용 중고 ESI / MICROVISION 3900 #9255776

ESI/MICROVISION 3900은 정밀한 이미징, 고급 결함 검토 (Advanced Defect Review) 및 심층 데이터 분석을 결합하여 고급 반도체 프로세스에 필요한 강력한 결함 감지 및 분류를 제공하는 완벽한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 고급 옵틱스 (Optics), 지능형 알고리즘 기술, 다양한 디지털 이미지 캡처/분석 도구를 활용하여 마스크 및 웨이퍼를 빠르고 안정적으로 검사합니다. 마스크와 웨이퍼는 ESI 3900의 자동 고해상도 렌즈 장치로 스캔됩니다. 렌즈 머신에는 수동 또는 자동 확대/축소, 초점 조정 및 노출 조정이 가능한 휴대용 카메라가 포함되어 있습니다. 이렇게 하면 마스크 및 웨이퍼 검사의 이미지 배율을 최적화할 수 있습니다. 또한 온보드 모니터 (Onboard Monitor) 를 통해 이미지를 다양한 모드로 표시하여 결함을 신속하게 파악할 수 있습니다. MICROVISION 3900은 디지털 이미징 기술과 고급 결함 감지 알고리즘으로 고속 마스크 및 웨이퍼 검사를 제공합니다. 이렇게 하면 공구가 작고, 감지하기 어려운 결함을 빠르고 정확하게 찾을 수 있습니다. 다중배율 (Multiple Magnification) 에서 결함을 감지하여 엔지니어가 특정 제품의 가장 문제가 발생하기 쉬운 부분을 신속하게 찾을 수 있습니다. 3900은 고급 웨이퍼 검사 기능으로 설계되었습니다. 파퍼 레이아웃 (wafer layout) 기능의 전체 범위를 거칠고 정확하게 분석합니다. 또한 리소그래피 결함, 입자 및 오염, 저항성 및 표면 지형을 검사하고 감지 할 수 있습니다. ESI/MICROVISION 3900은 유연한 GUI (그래픽 사용자 인터페이스), 조정 가능한 워크플로우, 강력한 이미지 분석 도구를 활용하여 데이터 처리를 간소화합니다. 또한 프로그래밍 가능한 데이터 저장, 검색, 자동 결함 감지, 결함 분류 등의 고급 자동화 옵션도 지원합니다. 이렇게 하면 대용량 이미지를 다시 검색할 필요가 없고, 빠르고 정확한 결함 분류가 가능합니다. 전반적으로 ESI 3900은 현재 사용 가능한 가장 안정적이고 효율적인 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템 중 하나입니다. 고속, 고해상도 이미징이 필요한 고급 반도체 프로세스에 적합합니다. 이 기능을 통해 엔지니어는 신속하게 결함을 감지하고 운영 프로세스의 효율성을 간소화할 수 있습니다 (영문).