판매용 중고 DATAPHYSICS ACA 50 #293812951

DATAPHYSICS ACA 50은 정교한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비로, 반도체 산업에 사용하도록 설계되었습니다. 마스크 (Mask) 와 포토 마스크 (Photomask) 의 제작 과정에서 생성되는 패턴 분석과 결함 감지 (Defect Detection) 및 실패 분석 (Failure Analysis) 으로 인한 웨이퍼 패턴 분석을 제공합니다. 이 시스템은 빛의 광학 회절을 사용하여 웨이퍼 패턴을 특성화하고 EFM (Electrostatic Flux Meter) 을 사용하여 재료 내에서 패러데이 (Faraday) 효과를 정확하게 측정합니다. ACA 50은 입자, 긁힘, 핀홀 등 다양한 결함을 극도로 정확하게 감지 할 수 있습니다. 이 장치의 광범위한 광원 (Light Source) 과 자동화된 중복 제거 후 처리 기술을 통해 정확한 이미지 분석 및 패턴 인식이 가능합니다. 고급 알고리즘 (Advanced Algorithm) 을 사용하면 해상도를 크게 저하시키지 않고도 신속하게 결함을 식별할 수 있습니다. 선택한 패턴을 실시간으로 표시하여 시각화 및 선명도를 높일 수도 있습니다. DATAPHYSICS ACA 50은 정확한 이미지 해상도와 필드 깊이 (depth of field) 를 제공하는 것 외에도 3D 컨투어 프로파일링을 매우 정확하게 측정합니다. 마이크로 포커스 매크로 픽셀 (Micro Focus Macropixel) 기술은 작은 입자를 200nm까지 정확하고 정확하게 측정 할 수 있으며 5mm 이상의 해상도를 제공합니다. ACA 50은 또한 눈부심 방지 (anti-glare) 기능을 가지고 있으며, 빛 간섭 및 반사의 영향을 줄이고 정확도를 더욱 향상시킵니다. DATAPHYSICS ACA 50의 사용자 친화적 인 디자인은 매우 효율적이고 인체 공학적입니다. 통합 6 "터치 스크린은 사용 편의성 및 작동성을 위해 설계되었으며, 필수 테스트 매개변수에 대한 원터치 (one-touch) 액세스를 제공합니다. 또한 직관적인 데이터 스토리지 (data storage) 기능을 통해 사용자는 시스템의 결과와 결과를 저장하고 보고서를 생성할 수 있습니다. ACA 50은 내장 컴퓨터, 프로젝터, 유연한 카메라 헤드, 렌즈 클리너 등 다양한 기능과 기능을 제공합니다. 또한, 자동 교정 도구 (automated calibration tool) 가 장착되어 있어 이미지 매개변수를 유지 관리 및 제어할 수 있으며, 각 테스트에서 더 나은 정밀도를 보장합니다. 따라서 DATAPHYSICS ACA 50은 우수하고, 신뢰할 수 있고, 정확한 검사 결과를 제공하여 반 도체 산업에 필수적인 도구임을 입증합니다. 고급 이미지 분석, 컨투어 프로파일 링 (Contour Profiling), 디블러링 포스트 프로세싱, 3D 기능 추출 및 직관적인 데이터 스토리지의 조합으로 모든 마스크 및 웨이퍼 검사 프로젝트에 이상적인 선택입니다.