판매용 중고 CARL ZEISS AIMS 32-193i #9254199

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ID: 9254199
Photomask repair system For stepper, 193 nm LITO Grade optics VIS Microscope Illumination unit Interferometer stage ArF Industrial grade Excimer laser Wavelength 193.4 nm Sigma aperture slider: ~100 Sigma apertures SMIF, 8" Handler system TUILASER ExciStar S-Industrial Laser Excimer (Argon fluoride) Wavelength: 193 nm Embedded laser class IV Laser class I Pulsed Wafer equivalent NA: >1 Numerical aperture range: 0.9 - 1.4 scanner NA Sigma range: 0.3 - 0.98 Illumination type: circular and off axis Linear polarization capability Vector effect emulation capability Through pellicle capability Reticle: 6"/250 mil with/without soft pellicle Stepper reduction: 1:4 Measurement field: 10 x 10μm Power supply: 400V 2010 vintage.
CARL ZEISS AIMS 32-193i는 반도체 생산에 사용되는 고급 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 이 시스템은 제조업체가 리소그래피 프로세스 (lithography process) 내에서 잠재적인 문제를 식별하고 해결할 수 있도록 설계되었습니다. 검사 장치는 선명하고 반복 가능한 이미지를 제공하는 통신 광학 머신이있는 33 "x 33" 스테이지로 제작되었습니다. 눈부심을 줄이고 대비를 개선하는 데 도움이 되는 스펙트럼 조명을 갖춘 LED 조명기가 있습니다. 이 도구에는 고해상도 이미지를위한 8 메가 픽셀 카메라와 함께 193nm 조리개 및 높은 NA 광학이 있습니다. '자동 비전 (automated vision)' 자산이 있어 빠른 주기를 허용하며 고속 패턴 결함 검사가 가능합니다. AIMS 32-193i에는 자동 초점 (automated focus), 패턴 일치 (pattern matching) 및 라인 스캔 검사 (line scan inspection) 와 같은 모델 기능에 쉽게 액세스 할 수있는 직관적인 사용자 인터페이스가 장착되어 있습니다. 오차율은 1% 미만인 높은 수준의 정확성과 반복성 (repeatability) 을 위해 설계되었습니다. 이 장비에는 또한 가장 작은 결함을 감지하고 결함이 없는 웨이퍼를 보장하는 고급 이미지 처리 (advanced image processing) 기능이 장착되어 있습니다. 이 시스템은 광범위한 분석 도구 (예: 종합적인 도량형 기능 세트) 를 갖추고 있습니다. 도량형 도구는 패턴 크기와 모양에 대한 정보와 오버레이 (overlay) 및 프로세스 균일성에 대한 정보를 제공합니다. 이 단위는 또한 높은 정밀도로 웨이퍼의 개체 간 거리를 측정 할 수 있습니다. 전반적으로 CARL ZEISS AIMS 32-193i (CARL ZEISS AIMS 32-193i) 는 반도체 제조업체가 리소그래피 프로세스를 개선하고 결함이없는 웨이퍼를 보장하도록 설계된 안정적이고 강력한 검사 기계입니다. 고속 패턴 검사 (High Speed Pattern Inspection) 기능을 제공하며, 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 도구 기능에 쉽게 액세스할 수 있습니다. 또한 패턴, 오버레이, 프로세스 균일성에 대한 자세한 분석을 제공하는 강력한 도량형 (metrology) 도구가 장착되어 있습니다. 이 자산은 반도체 기업이 고품질 웨이퍼 (wafer) 를 생산하고 제품이 엄격한 업계 표준을 충족하도록 돕는 데 필수적입니다.
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