판매용 중고 CARL ZEISS AIMS 193 #9196378

CARL ZEISS AIMS 193은 웨이퍼 패턴 및 결함 관리를 위해 설계된 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 반도체 마스크 및 웨이퍼에 대한 패턴의 서브 마이크론 해상도 (sub-micron resolution) 이미지를 제공하는 고급 이미징 시스템입니다. 이미징 장치는 마스크/웨이퍼 (mask/wafer) 표면의 디지털 이미지를 캡처하고 개발 과정을 따릅니다. AIMS 193에는 분광기, 현미경 및 슬릿과 같은 여러 장치가 장착되어 있습니다. 이러한 구성 요소를 사용하면 최대 512x8192의 시야로 0.1 - 0.2 um (0.1 - 0.2 um) 의 뛰어난 이미지 해상도를 제공할 수 있습니다. 이 시스템은 이미징 (Imaging) 하드웨어 외에도 이미지 데이터를 관리하고 분석할 수 있는 소프트웨어 (Software) 를 갖추고 있습니다. 이 소프트웨어에는 변경 값을 추적하고 고급 이미징 분석 (advanced imaging analysis) 기능을 제공하는 트랙백 (traceback) 툴이 포함되어 있습니다. 이를 통해 실시간으로 제조 및 정렬 프로세스를 검토할 수 있습니다. 또한, 소프트웨어는 대비 조정, 종횡비 조정, 선명도 조정, 슬라이싱, 개체 추출 등 다양한 이미지 조작 옵션을 제공합니다. 에셋에는 효율적인 탐색 및 설정을 위한 터치 스크린 모니터도 있습니다. '확대/축소', '팬', '회전', '역', '색조', '채도', '회전', '레이블' 및 이미지 '편집' 과 같은 기능을 제공합니다. 또한, 이 장치는 금속 화 기능 및 결함의 고해상도 디지털 이미지를 캡처 할 수도 있습니다. 그런 다음 소프트웨어를 사용하여 이미지를 분석하여 다양한 종류의 테스트 결과, 3D 모델 생성, 공차 (tolerancing) 및 변환을 확인할 수 있습니다. CARL ZEISS AIMS 193은 반도체 마스크 및 웨이퍼의 결함을 감지하고 모니터링하도록 설계된 고급 검사 모델입니다. 이 장비는 분석 및 조작 도구와 함께 서브 마이크론 해상도 (sub-micron resolution) 의 뛰어난 이미징 기능을 제공합니다. 하드웨어와 소프트웨어의 조합으로 AIMS 193은 결함 관리, 시각 형상, 제조 프로세스에 효과적인 시스템입니다.