판매용 중고 ASM TLB 139 #9299469

ASM TLB 139는 강력하고 다양한 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 반도체 생산 공정의 결함 특성화를위한 포괄적 인 솔루션입니다. 이 시스템은 웨이퍼 (wafer) 표면의 이상 (anomalies) 을 빠르게 식별하고 장거리 현미경 설계를 사용하여 발견된 결함의 깊이를 측정 할 수 있습니다. 또한, 웨이퍼 수준에서 IC 생산에 사용되는 마스크의 두께를 측정 할 수 있습니다. TLB 139 는 최대 2000배 (2000x) 까지 확장할 수 있으므로 마스크 및 웨이퍼에 있는 작은 기능을 매우 정확하고 정확하게 감지할 수 있습니다. 이 장치에는 2 개의 이미징 카메라 (마스크 카메라와 웨이퍼 카메라) 가 장착되어 있습니다. 마스크 카메라는 마스크의 고해상도 이미징 (high resolution imaging) 을 위해 설계된 반면, 웨이퍼 카메라는 넓은 시야의 웨이퍼 (wafer) 표면에 있는 결함의 미세한 이미지를 캡처합니다. 이 기계는 내장 광학 패턴 인식 알고리즘으로 정확한 결함 분석을 제공합니다. 기판과 실제 기능을 구분하여 잠재적 결함 (potential defects) 과 허위 (false positive) 를 구별 할 수 있습니다. ASM TLB 139는 편광, 반사광, 투과등 다양한 시청 모드를 제공합니다. 이러한 다양한 모드를 통해, 사용자는 마스크 재료를 관찰하고, 마스크를 통해 기본 웨이퍼 (wafer) 서피스까지 볼 수 있습니다. 또한 공구의 보기 모드를 사용하여 밝은 기판에서 보기 어려운 피쳐를 감지할 수 있습니다 (영문). 자동 초점 조정 (Automatic focus adjustment) 은 주어진 관심 영역에 중점을 둔 매크로 (macro) 또는 마이크로 (micro) 에 사용될 수 있으며, 수동 전동식 xy 스캐닝은 더 자세한 검사를 위해 현미경 자산을 더 작은 단계에서 정확하게 이동할 수 있습니다. 이 모델을 사용하면 수집된 데이터를 지능적이고 자동화된 방식으로 관리할 수 있습니다. 즉, 빠르고 쉽게 분석하고 결과를 공유할 수 있습니다. 수집된 모든 데이터는 추가 검토 또는 고급 진단을 위해 공유 네트워크 드라이브에 저장됩니다. TLB 139 마스크 및 웨이퍼 검사 장비는 또한 매크로 함수를 로드하고 저장하여 향후 재사용 (reuse) 하거나 다른 설정으로 반복할 수 있습니다. 이 기능을 통해 시스템은 다양한 유형의 생산 라인에 적합합니다.