판매용 중고 ASM OB 139SC #9286498

ASM OB 139SC Machine Vision Mask 및 Wafer Inspection Equipment는 마스크 및 웨이퍼 제작을 정확하고 반복적으로 검사 할 수있는 기계 비전 기반 자동 시스템입니다. 강력한 스트림 프로세싱 멀티 코어 아키텍처와 고급 고해상도 이미징 장치 (High-Resolution Imaging Unit) 를 통합하여 제조 결함을 빠르고 정확하게 파악할 수 있으며, 해상도는 최대 4.5m입니다. 이 기계는 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 로 최적화되어 빠른 설정과 효율적인 작동이 가능하며, 뛰어난 이미징 품질과 해상도를 제공하여 장치 매개변수를 포괄적으로 파악할 수 있습니다. OB 139SC Machine Vision Mask 및 Wafer Inspection Tool은 스마트 소프트웨어 기반 이미징 플랫폼을 통합하여 향상된 속도와 정확도를 제공합니다. 특유의 고해상도 (High Resolution) 아키텍처를 통합하여 마스크 및 웨이퍼 구조에 대한 명확하고 상세한 이미지를 실시간으로 제공합니다. 이를 통해 사용자는 매개변수를 조정하지 않고도 마스크 및 웨이퍼 구조에서 입자 결함, 선 너비 변형, 패턴 오정 (pattern misalignment) 및 기타 리소그래픽 불일치를 식별할 수 있습니다. 에셋은 또한 각 매개 변수를 수동으로 입력하지 않고도 대비 (contrast), 밝기 (brightness) 등과 같은 이미지 조정을 보완할 수 있습니다. 이 모델의 소프트웨어 플랫폼 (Software Platform) 은 일련의 고성능 처리 도구를 사용하여 사용자가 마스크 및 웨이퍼 이미지를 신속하게 검사하여 결함이 있는지 확인합니다. 최대 2 기가바이트 (GB) 의 메모리 스토리지가 내장되어 있어 오프라인 검사를 위해 데이터를 저장하고 장비에 이미지를 편집할 수 있습니다. 또한, 연결된 호스트 PC의 이미지 실시간 표시를 지원하며, 이더넷 및 USB 연결을 모두 지원합니다. ASM OB 139SC Machine Vision Mask 및 Wafer Inspection System은 프로세스 성능 및 품질 제어를 향상시키기 위해 설계되었습니다. 자동 분석/보고 (Automatic Analysis and Reporting) 기능을 통해 결함을 쉽게 파악하고 해결하고, 사용자가 잠재적인 프로세스 결함을 파악하고, 시간을 절약하고, 장기적으로 프로세스 제어 비용을 절감할 수 있습니다. 또한 '원격 모니터링 (remote monitoring)' 기능을 통해 장기간 시스템 성능을 쉽게 추적할 수 있습니다. 전반적으로 OB 139SC Machine Vision Mask 및 Wafer Inspection Unit은 마스크 및 웨이퍼 제작을위한 강력하고 안전한 도구입니다. EMC SourceOne Details Reposition을 사용하면 문제가 발생할 수 있는 문제를 파악하고 해결하는 데 도움이 되는 광범위한 분석 기능과 더불어 정확하고 반복 가능한 결함 감지 기능을 제공할 수 있습니다 (영문).