판매용 중고 ASM ISIBE 139H #9396132

ASM ISIBE 139H는 반도체 제작 프로세스에 사용되는 고성능 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 최대 11 미크론 (Micron) 의 결함을 감지 할 수있는 대규모 고급 이미징 및 검사 기능이 장착되어 있어 마스크 패턴 (Mask Pattern) 및 MEMS 구조 (MEMS Structure) 와 같은 복잡한 웨이퍼에서 작은 기능을 검사하는 데 이상적입니다. ISIBE 139H 는 작동 속도가 빨라서, 높은 처리량으로 웨이퍼를 처리할 수 있습니다. 이 시스템은 고급 레이저 이미징 (Laser Imaging) 및 검사 기술을 활용하여 매우 정확하고 정확한 장치 이미지를 제공합니다. 효율적인 이미지 처리 알고리즘은 가장 중요한 기능만 캡처, 분석하도록 합니다. 또한 잘못 정렬, 누락 및 얇아진 패턴을 감지하는 고급 결함 감지 (Advanced Defect Detection) 체계가 장착되어 있습니다. 이 장치는 결함을 감지하기가 가장 어려워 AFM (atomic force microscopy) 및 EBL (electron-beam lithography) 과 같은 응용 분야에도 적합합니다. ASM ISIBE 139H는 또한 고해상도 이미지를 제공하는 데 유용한 고해상도 초점 제어 머신을 갖추고 있습니다. 이 도구의 10 m 해상도 이미징 (Folution Imaging) 은 다른 시스템보다 더 큰 검사 영역을 생성하여 짧은 시간 안에 더 많은 결함을 감지 할 수 있습니다. 자산은 자동 결함 분석 (Automatic Defect Analysis) 및 분류 (Classification) 기능도 갖추고 있어 결함 식별을 위한 수동 개입이 필요한 다른 검사 시스템에 비해 우위를 점하고 있습니다. ISIBE 139H에는 간편한 운영 및 최소한의 교육을 위해 설계된 직관적인 사용자 인터페이스가 있습니다. 고급 교정 모델을 사용하면 웨이퍼와 마스크 패턴을 쉽고, 정확하고, 일관되게 배치할 수 있습니다. 이 장비는 또한 자동 초점 기능 (auto-focus capability) 을 갖추고 있어 광학 초점 (optical focus) 을 빠르고 정확하게 조정하여 더 나은 결과를 얻을 수 있습니다. ASM ISIBE 139H는 반도체 업계에서 널리 사용되며, 안정적인 결함 감지 및 결함 식별 기능을 제공합니다. 고성능, 정밀도, 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 검사를 위한 최적의 선택이 가능합니다. 고급 이미징, 결함 감지 (defect detection) 및 교정 (calibration) 기능을 통해 정확하고 안정적인 결과를 얻을 수 있으므로 모든 반도체 부착 프로세스에 필수적인 툴이 됩니다.