판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS UVision 4 #293665708

AMAT/APPLIED MATERIALS UVision 4 Mask and Wafer Inspection Equipment는 다양한 반도체 및 집적 회로 (IC) 제작 프로세스를 위해 설계된 최첨단 이미징 시스템입니다. 이 장치는 브라이트 필드 (brightfield) 및 다크 필드 검사 (darkfield inspection) 및 최첨단 정렬 분석 알고리즘을 결합하여 반도체 및 웨이퍼 제작에서 최고 수준의 수율을 보장합니다. 이 기계는 파괴적이지 않은 결함 검사를 가능하게 하며, 표면 지형의 상세한 이미지와 마스크 (mask) 또는 웨이퍼 (wafer) 내의 잠재적 장애 현장을 제공합니다. 이 도구에는 고급 이미지 처리 알고리즘 (Advanced Image Processing Algorithm) 이 포함되어 있어 누락되지 않는 가장 작은 결함 사이트도 식별할 수 있습니다. 에셋은 또한 단일 컴포넌트 내에서 두 개의 다른 깊이에서 미세 패터 (fatter) 와 결함 (defect) 을 검사하고 구별할 수 있으며, 마스크 또는 웨이퍼 (wafer) 의 각 레이어를 고품질 검사할 수 있습니다. 이 모델은 고해상도의 디지털 이미징 (digital imaging) 과 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 다양한 유형의 마스크 및 웨이퍼 검사를 빠르고 쉽게 수행할 수 있습니다. 지원되는 기능은 다음과 같습니다. 다이 투 다이 결함 검사, 사전 스캔, 전체 웨이퍼 마스크 검사, 현물 결함 검사 및 복사 마스크 검사. 또한 피치, 영역, 선/공간, 중첩, 모양 및 배치와 같은 여러 다이 형상 매개변수를 평가할 수 있습니다. 또한, AMAT UVision 4에는 최대 2 개의 참조 마스크와 1 개의 타겟 마스크를 동시에 일치 할 수있는 마스크 정렬 장비가 장착되어 있습니다. 이는 검사 프로세스의 정확성과 반복성을 보장합니다. 이 시스템은 모든 웹 브라우저, Windows 또는 UNIX 운영 체제에서 작동할 수 있으며, 자동 작업을 지원하기 위해 광범위한 MIS (Mask Inspection Machine) 명령 라이브러리가 제공됩니다. 또한, 이 장치에는 특허를 획득한 자동 수정 (auto-correction) 알고리즘이 포함되어 있어 공구의 수동 조정 필요성을 줄여 검사 시간을 최소화합니다. APPLIED MATERIALS UVision 4 Mask 및 Wafer Inspection Asset의 뛰어난 기능과 기능을 통해 고급 반도체 및 집적 회로 제작 프로세스에 필수적인 툴이 됩니다. 이 모델을 사용하면 결함을 신속하고 정확하게 파악할 수 있으므로 제조 환경에서 생산량 (Yield) 과 처리량 (Throughput) 이 향상됩니다.