판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS UVision 4 #293665699

AMAT/APPLIED MATERIALS UVision 4는 반도체 제작 응용 프로그램을 위해 설계된 고정밀 5 축 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 파퍼 (wafer) 와 마스크 (mask) 의 표면 오류뿐만 아니라 패턴 기하학적, 크기 및 모양 특성을 측정 할 수 있습니다. 이 시스템에는 일련의 3 차원 광학 센서가 포함되어 있어 시야와 심층적 결함을 모두 감지합니다. AMAT UVision 4 (AMAT UVision 4) 에는 패턴 피쳐의 형상을 비교, 분석하는 고급 이미지 처리 알고리즘이 장착되어 있어, 초기 감지 및 오류 예방에 도움이 됩니다. 이 장치는 200mm 및 150mm 웨이퍼를 수용 할 수있는 8 인치 x 8 인치 듀얼 스테이지를 사용합니다. APPLIED MATERIALS UVision 4에는 작은 결함과 기능을 쉽게 식별 할 수있는 2 개의 Class-Two 밝은 필드 광선이 장착되어 있습니다. 또한, 활성 스태이징 기술을 통해 전체 및 부분 표면을 정확하게 스캔 할 수 있습니다. 이를 통해 잠재적 결함이 일찍 발견되어 더 나은 웨이퍼 (wafer) 및 마스크 수익률을 얻을 수 있습니다. 이 기계는 정확성과 안정성을 보장하기 위해 자동 기능 추출 (automated feature extraction) 소프트웨어가 내장되어 있습니다. 이 소프트웨어는 브리지, 트렌치, fiducial 마크와 같은 기능을 자동으로 추출하고 검사하여 치수와 위치를 결정합니다. 자동 소프트웨어는 모서리, 라인엔드 모양 및 개폐/닫기를 분석 할 수도 있습니다. 또한 앤티 앨리어싱 (anti-aliasing) 및 지터링 (jittering) 알고리즘이 장착되어 해상도와 명암비를 향상시킵니다. UVision 4는 SEM (Scanning Electron Microscope), TEM (Transmission Electron Microscope) 및 레이저 이미징과 같은 다양한 디지털 이미징 기술과 함께 사용하도록 설계되었습니다. 또한 스팟 조명, 홍수 조명, 펄스 조명과 같은 다양한 조명 및 노출 기술을 사용합니다. 또한 고급 피쳐 인식 (advanced feature recognition) 및 패턴 일치 (pattern matching) 알고리즘을 사용하여 복잡한 피쳐를 검색할 수 있습니다. 이 다기능 자산은 반도체 제작시 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 (mask) 를 검사하는 데 필요한 시간과 노력을 대폭 줄이는 데 도움이 됩니다. 나노미터 (nanometer) 수준에서 결함을 감지하고 측정하는 데 더 정밀하고 정확성을 제공하면서 처리량 (throughput) 과 안정적인 성능을 제공합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS UVision 4는 결함의 종합적인 식별과 설계 규칙 확인을 통해 수율을 높이는 데 도움이 됩니다.