판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Semvision ADC Server #9147377

AMAT/APPLIED MATERIALS Semvision ADC Server는 마스크 설계자와 석판사가 데이터 추출, 레이아웃 비교, 이미지 처리를 빠르고 정확하게 분석 할 수 있도록 설계된 자동 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 신속한 마스크 및 웨이퍼 제작을 위한 효율적인 솔루션입니다. 이 시스템은 포괄적인 애플리케이션 제품군을 사용하여 운영 프로세스 제어에 중점을 둡니다. 또한 내부 및 외부 사양을 위한 사용자 친화성, 자동 분석, 반복 가능한 데이터를 제공합니다. 다양한 마스크/웨이퍼 (Wafer) 데이터 분석 작업을 위한 다양한 표준/맞춤형 소프트웨어 툴이 제공됩니다. 이러한 도구에는 데이터 추출, 레이아웃 비교, 이미지 처리, 결함 및 취약점 감지, 특수 작업을 위한 사용자 정의 스크립팅 기능 등이 포함됩니다. 이 장치는 데이터 표현을위한 다양한 직관적 인 시각기와 함께 제공됩니다. 사용자는 강력한 드로잉 기능을 통해 프로세스 생성 (process-generated) 데이터를 즉시 시각화하여 개선 영역을 파악할 수 있습니다. 이 용지 간 데이터 추출 (Paper-to-Fab Data Extraction) 은 설계 데이터에서 하나의 신호를 가져와 본격적인 이미지로 변환합니다. 이것은 웨이퍼 특성을 디버깅 및 검토하는 데 특히 유용합니다. 이 기계의 자동 분석 (automated analysis) 기능을 통해 사용자는 상세한 검사를 수행하고 개별 웨이퍼의 결함을 찾을 수 있습니다. 이것은 전체 생산 수율을 더욱 증가시키는 데 도움이됩니다. 자동 분석 (Automated Analysis) 은 또한 처리된 데이터에서 웨이퍼 패턴을 식별하고 분리하는 일련의 그래픽 추적 라운드 (graphical trace-rounding) 알고리즘을 제공합니다. 정교하고 민첩한 패턴 인식 기능을 통해 지루한 수동 작업 (manual task) 을 수행하는 데 소요되는 시간을 절약할 수 있습니다. 자동화된 이미지 처리 기능을 통해 사용자는 이미지를 보고, 편집하고, 분석할 수 있습니다. 여기에는 이미지의 품질 향상을 위한 노이즈 감소 (noise reduction), 형상 변환 (geometric transforms), 모서리 연결 (edge linking) 등의 도구가 포함됩니다. AMAT Semvision ADC Server의 결함 감지 (defect detection) 기능은 웨이퍼나 마스크가 가진 문제를 신속하게 감지합니다. 프로세스 제어 시스템 (process control system) 과의 통합을 통해 사용자는 이상과 결함 영역을 신속하게 파악할 수 있습니다. 공정 제어 분석 (Process Control Analysis) 의 통합은 수동으로 결함을 찾지 않아도 마스크의 웨이퍼 이미지 (Wafer Image) 와 의심스러운 영역 속에서 결함을 식별하는 추적 기능과 능력을 향상시킵니다. 전반적으로 APPLIED MATERIALS Semvision ADC Server는 생산량 가속화를 위한 효율적이고 자동화된 마스크 및 웨이퍼 검사 도구입니다. 직관적인 데이터 시각기, 강력한 그리기/편집 기능, 자동화된 프로세스 제어, 효율적인 추적성 등이 특징입니다. 이 자산은 마스크, 웨이퍼 디자이너, 석판 제작자에게 직관적이고 다양한 플랫폼을 제공하여 고품질 검사 및 감지 활동을 보장합니다.