판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Complus MP #293769355

AMAT Complus Mask & Wafer Inspection Equipment는 반도체 장치 제조를 위해 설계된 고성능 마스크 및 웨이퍼 검사 시스템입니다. 이 장치는 다양한 광/비광학 (optical/non-optical) 기술을 통합하여 디바이스 결함 및 기능에 대한 포괄적인 뷰 (view) 를 제공하여 프로세스 제어 및 디바이스 생산성을 향상시킵니다. 이 기계에는 광학 현미경, 자동 웨이퍼 분석, CAD-Compare 및 X-ray 이미징이 포함 된 통합 마스크 및 웨이퍼 검사 모듈이 있습니다. 광학 현미경은 마스크와 웨이퍼를 동시에 검사할 수 있는 고성능 고해상도 이미징 (high-power, high-resolution imaging) 툴로, 모든 장치 기능을 심층적으로 볼 수 있습니다. 자동 웨이퍼 분석 (Automated wafer analysis) 은 등록 정확도가 최대 0.25 미크론인 각 웨이퍼의 결함을 감지하고 정량화하는 데 사용됩니다. CAD-비교 (CAD-Compare) 는 반도체 장치의 설계 및 측정 피쳐 지형을 비교하는 데 사용되므로 장치 설계자가 설계의 올바른 제조를 확인할 수 있습니다. 마지막으로, X-ray 이미징 모듈을 사용하면 각 마스크 및 웨이퍼에서 물리적/전기적 결함을 식별할 수 있습니다. 에셋은 CCD 이미징 모델을 사용하여 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 이미지와 각 스캔에 대해 디지털로 생성된 이미지를 가져옵니다. XY 방향과 XYZ 방향 모두에서 자동 레이저 정렬 기능이 있으며, 이를 통해 운영자는 wafer 및 mask 섹션을 정확하게 검사할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Complus Mask & Wafer Inspection Equipment는 초당 최대 30,000 픽셀의 데이터를 수집 할 수 있으며 0.6 - 20mm 범위의 가벼운 필드 조리개가 있습니다. 또한, 사용자는 다양한 색상 팔레트 (color palette) 옵션 중에서 선택하여 검사 데이터를 가장 좋은 방법으로 볼 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Complus Mask & Wafer Inspection System에는 다양한 소프트웨어 도구와 기능이 장착되어 있습니다. 여기에는 뛰어난 이미지 처리 소프트웨어, 실시간 이미지 분석 (real-time image analysis), 프로세스 관련 수율 손실을 파악하고 평가하는 강력한 프로세스 분석 도구 (process analysis tool) 가 포함됩니다. 또한, 이 장치에는 자동 패턴 인식 (pattern recognition) 기능이 있어 운영자가 빠른 속도로 자세한 검사를 수행 할 수 있습니다. 이 시스템은 이러한 기능 외에도 고급 보고 (Advanced Reporting) 및 시각화 (Visualization) 기능을 갖추고 있습니다. AMAT 콤플러스 마스크 & 웨이퍼 검사 도구 (AMAT Complus Mask & Wafer Inspection Tool) 는 반도체 장치 제조업체에 필수적입니다. 이 자산은 소자의 물리적, 전기적 측면에 대한 통찰력을 제공하고, 프로세스 제어 (process control) 와 수익률을 최적화함으로써 반도체 소자가 규격 (specification) 으로 제조되도록 합니다.